[实用新型]一种真空镀膜机的旋转载片装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机的旋转载片装置，包括上腔体和自转架，自转架上设置有固定槽，上腔体上设置有旋转动力装置，所述固定槽包括内圈固定槽和外圈固定槽，自转架包括架体，架体的顶部中心设置有连接法兰，旋转动力装置的动力端与连接法兰可拆卸连接，上腔体上设置有遮挡部分内圈固定槽和部分外圈固定槽的遮挡装置，该遮挡装置遮挡外圈固定槽的面积大于遮挡内圈固定槽的面积。该旋转载片装置能够方便自转架的整体取出，同时还能提高内圈基片和外圈基片整体的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及一种旋转载片装置，用于真空镀膜机上使用。

背景技术

真空镀膜机是半导体材料制作过程中一种常用的设备，目前主要有电子束蒸发法，其主要原理是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料，使蒸发材料气化并向基片移动，在基底上凝结形成薄膜的方法。电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜，同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩埚，实现同时或分别蒸发，沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发，任何材料都可以被蒸发。电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。而目前的真空镀膜机主要包括镀膜腔，镀膜腔的顶部为上腔体且安装了自转架，基片放置在自转架上旋转，而镀膜腔的底部则放置了电子枪和坩埚，金属蒸发后沉积在自转架的基片上。然由于自转架上的基片是绕其旋转中心圆周布置的，因此，按照布置的直径不同，基片形成了内圈基片和外圈基片，而在单位时间内，内外圈基片行走的路径长度是不相同的，就会造成镀膜厚度的不均。另外目前的旋转载片装置自转架的更换相对较复杂，因此在每次换片时的时间较长，影响了真空镀膜的效率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种真空镀膜机的旋转载片装置，该旋转载片装置能够方便自转架的整体取出，同时还能提高内圈基片和外圈基片整体的均匀性。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种真空镀膜机的旋转载片装置，包括上腔体和转动安装于上腔体的自转架，所述自转架上设置有至少两圈用于固定基片的固定槽，所述上腔体上设置有驱动自转架旋转的旋转动力装置，所述固定槽包括同心设置的若干个内圈固定槽和若干个外圈固定槽，所述自转架包括球面状的架体，所述架体的球心与真空镀膜机的靶材位置重合，所述架体的顶部中心设置有连接法兰，所述旋转动力装置的动力端与连接法兰可拆卸连接，所述上腔体上设置有尺寸大于自转架直径的换片口，所述换片口上可拆卸固定有换片门，所述上腔体上设置有遮挡部分内圈固定槽和部分外圈固定槽的遮挡装置，该遮挡装置遮挡外圈固定槽的面积大于遮挡内圈固定槽的面积。

作为一种优选的方案，所述连接法兰包括筒体和设置于筒体上的下连接法兰部和上连接法兰部，所述架体的旋转中心处设置有插入孔，所述筒体由上而下插入所述插入孔内且下连接法兰与架体螺栓固定，所述旋转动力装置的动力端上设置有挂杆，所述上连接法兰与所述挂杆可拆卸连接。

作为一种优选的方案，所述挂杆包括连接杆部和设置于连接杆部下部的第一钩挂杆部和第二钩挂杆部，第一钩挂杆部和第二钩挂杆部之间的间距大于上连接法兰的间距，所述第一钩挂杆部和第二钩挂杆部的下部分别设置有第一挂钩部和第二挂钩部，所述上连接法兰放置于第一挂钩部和第二挂钩部上且通过压板螺栓固定。

作为一种优选的方案，所述第一挂钩部和第二挂钩部的上表面设置有方便上连接法兰放置的定位凹槽。

作为一种优选的方案，所述遮挡装置包括若干个固定于上腔体上的支座，每个支座上均摆动安装有摆杆，所述摆杆上固定有用于遮挡片，所述遮挡片径向延伸，遮挡片上具有用于遮挡外圈固定槽的外遮挡部和用于内圈固定槽的内遮挡部，外遮挡部的面积大于内遮挡部的面积，所述摆杆由偏摆动力装置驱动偏摆。

作为一种优选的方案，所述偏摆动力装置包括竖直安装于上腔体上的直线动力装置，所述直线动力装置的输出端固定有驱动齿条，所述摆杆的一端设置有与驱动齿条啮合的齿轮，所述支座上设置有限制摆杆摆动角度的限位结构。