[实用新型]一种散裂中子源反射体的维护工具有效

专利信息
申请号: 202122184417.6 申请日: 2021-09-10
公开(公告)号: CN215933202U 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 杨娟娥 申请(专利权)人: 杨娟娥
主分类号: G21C19/105 分类号: G21C19/105;G21C17/00
代理公司: 成都智涌知识产权代理事务所(普通合伙) 51313 代理人: 魏振柯
地址: 510660 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 中子源 反射 维护 工具
【说明书】:

实用新型公开了一种散裂中子源反射体的维护工具,包括上盖装置和下部装置,所述上盖装置由圆柱罩和升降机组成,所述下部装置由第二圆柱管、第一框架、第一滑动架、第二框架和第二滑动架组成,第二圆柱管的左侧侧边设有第一框架,第一框架的中间位置设有第一滑动架,第二圆柱管的右侧侧边设有第二框架,第二框架的中间位置设有第二滑动架,所述圆柱罩的表面设有第一凸块,第一圆柱罩的底端设有第一圆柱管,第一圆柱管表面上端处设有第二凸块,圆柱罩与第一圆柱管之间通过第一圆轨进行滑动升降,第一圆柱管的下端处设有第二圆柱管,第二圆柱管表面的下端处设有第四凸块,且第一圆柱管表面的下端处设有第三凸块。

技术领域

本实用新型涉及中子领域,尤其是涉及一种散裂中子源反射体的维护工具。

背景技术

当一个中等能量的质子打到重核(钨、汞等元素)之后会导致重核的不稳定而“蒸发”出20-30个中子,这样重核“裂开”并向各个方向“发散”出相当多的中子,大大提高了中子的产生效率,按这种原理工作的装置称为散裂中子源。

中国迄今单项投资规模最大的国家重大科技基础设施——中国散裂中子源(CSNS)将在2018年迎来验收,目前该装置3台谱仪的首批实验计划对外公布,实验覆盖若干前沿交叉和高科技研发领域。

中子反射(Neutron reflectometry)是一种测量薄膜结构的中子衍射技术,类似于常用的互补性X射线反射与椭圆偏振技术。该技术可在非常广泛的科学技术应用范围提供有价值信息,包括化学聚合、高分子与表面吸附、磁性薄膜结构、生物膜等。

随着散裂中子源发射体的科研项目成功实现,散裂中子源发射体也能计算出物质含量的最大数值。然而目前散裂中子源发射体的维护工具在操作过程过于复杂和繁琐,为此提出一种散裂中子源反射体的维护工具。

实用新型内容

本实用新型为克服上述情况不足,旨在提供一种能解决上述问题的技术方案。

一种散裂中子源反射体的维护工具,包括上盖装置和下部装置。

所述上盖装置由圆柱罩和升降机组成,所述下部装置由第二圆柱管、第一框架、第一滑动架、第二框架和第二滑动架组成,第二圆柱管的左侧侧边设有第一框架,第一框架的中间位置设有第一滑动架,第一滑动架的内部上下两端分别设有第一固定块,第二圆柱管的右侧侧边设有第二框架,第二框架的中间位置设有第二滑动架,第二滑动架的内部上下两端分别设有第二固定块,所述圆柱罩的表面设有第一凸块,第一圆柱罩的底端设有第一圆柱管,第一圆柱管表面上端处设有第二凸块,圆柱罩与第一圆柱管之间通过第一圆轨进行滑动升降,第一圆柱管的下端处设有第二圆柱管,第二圆柱管表面的下端处设有第四凸块,且第一圆柱管表面的下端处设有第三凸块。

优选地,所述第二圆柱管的左侧侧面设有第一电机,第二圆柱管的右侧侧面设有第二电机。

优选地,所述第一框架内部的上下两端分别旋转固定有多个均匀分布排列的第一齿轮,第二框架内部的上下两端分别旋转固定有多个均匀分布排列的第三齿轮。

优选地,所述第一滑动架表面的上下两端旋转固定有多个均匀分布排列的第二齿轮,第二滑动架表面的上下两端旋转固定有多个均匀分布排列的第四齿轮。

优选地,所述两个第一固定块之间固定有第一中子发射体板块,两个第二固定块之间固定有第二中子发射体板块。

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