[实用新型]一种散裂中子源反射体的维护工具有效

专利信息
申请号: 202122184417.6 申请日: 2021-09-10
公开(公告)号: CN215933202U 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 杨娟娥 申请(专利权)人: 杨娟娥
主分类号: G21C19/105 分类号: G21C19/105;G21C17/00
代理公司: 成都智涌知识产权代理事务所(普通合伙) 51313 代理人: 魏振柯
地址: 510660 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 中子源 反射 维护 工具
【权利要求书】:

1.一种散裂中子源反射体的维护工具,包括上盖装置和下部装置,其特征在于,所述上盖装置由圆柱罩和升降机组成,所述下部装置由第二圆柱管、第一框架、第一滑动架、第二框架和第二滑动架组成,第二圆柱管的左侧侧边设有第一框架,第一框架的中间位置设有第一滑动架,第一滑动架的内部上下两端分别设有第一固定块,第二圆柱管的右侧侧边设有第二框架,第二框架的中间位置设有第二滑动架,第二滑动架的内部上下两端分别设有第二固定块,所述圆柱罩的表面设有第一凸块,第一圆柱罩的底端设有第一圆柱管,第一圆柱管表面上端处设有第二凸块,圆柱罩与第一圆柱管之间通过第一圆轨进行滑动升降,第一圆柱管的下端处设有第二圆柱管,第二圆柱管表面的下端处设有第四凸块,且第一圆柱管表面的下端处设有第三凸块。

2.根据权利要求1所述的一种散裂中子源反射体的维护工具,其特征在于,所述第二圆柱管的左侧侧面设有第一电机,第二圆柱管的右侧侧面设有第二电机。

3.根据权利要求1所述的一种散裂中子源反射体的维护工具,其特征在于,所述第一框架内部的上下两端分别旋转固定有多个均匀分布排列的第一齿轮,第二框架内部的上下两端分别旋转固定有多个均匀分布排列的第三齿轮。

4.根据权利要求1所述的一种散裂中子源反射体的维护工具,其特征在于,所述第一滑动架表面的上下两端旋转固定有多个均匀分布排列的第二齿轮,第二滑动架表面的上下两端旋转固定有多个均匀分布排列的第四齿轮。

5.根据权利要求1所述的一种散裂中子源反射体的维护工具,其特征在于,所述两个第一固定块之间固定有第一中子发射体板块,两个第二固定块之间固定有第二中子发射体板块。

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