[实用新型]一种新型真空沉积装置有效
申请号: | 202122134705.0 | 申请日: | 2021-09-06 |
公开(公告)号: | CN215856297U | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 宋崇顺;史晓华 | 申请(专利权)人: | 苏州光越微纳科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 彭益波 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 真空 沉积 装置 | ||
本实用新型涉及了一种新型真空沉积装置,包括:容纳腔,包括腔体和可开闭的腔门;抽真空组件,与容纳腔的内腔连通;密封的药品室,固定设于腔门的内侧壁上;药品室包括药品存放组件、药品加热组件以及可开闭的药品蒸发窗口;药品存放组件用于存放液态功能药品,药品加热组件用于加热液态功能药品生成气态功能药品;药品蒸发窗口与药品存放组件连通、且朝向内腔,用于将气态功能药品蒸发至内腔;主控装置,与药品蒸发窗口信号连接,用于控制药品蒸发窗口打开或关闭。通过上述设置,可解决目前真空沉积装置中输送气态功能药品的外部管道易被污染而影响样品沉积效果、导致样品产品质量降低的问题。
技术领域
本实用新型涉及微纳加工技术领域,具体涉及一种新型真空沉积装置。
背景技术
纳米压印技术,是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术。
目前,纳米压印技术中,很多样品或样片在加工前,需要先在表面涂覆一层功能药品,以降低其表面的各种特性。
传统的涂膜方法为直接在样品或样片上进行涂抹,这种成膜方式均匀度差,效率低下。
现有技术中,部分真空沉积装置一般采用外部管道输入气态功能药品,从而对真空沉积装置内的样品或样片进行表面沉积。此种装置中,外部管道容易被污染,从而影响最终的沉积效果,导致样品或样片质量降低。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种新型真空沉积装置,来解决目前真空沉积装置中输送气态功能药品的外部管道易被污染而影响样品沉积效果、导致样品质量降低的问题。
为了实现上述实用新型目的之一,本实用新型一实施方式提供一种新型真空沉积装置,包括:
容纳腔,包括腔体和可开闭的腔门,用于容纳待沉积的样品;
抽真空组件,与所述容纳腔的内腔连通;
密封的药品室,固定设于所述腔门的内侧壁上;所述药品室包括药品存放组件、药品加热组件以及可开闭的药品蒸发窗口;所述药品存放组件用于存放液态功能药品,所述药品加热组件用于加热液态功能药品生成气态功能药品;所述药品蒸发窗口与所述药品存放组件连通、且朝向所述内腔,用于将气态功能药品蒸发至所述内腔;
主控装置,与所述药品蒸发窗口信号连接,用于控制所述药品蒸发窗口打开或关闭。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述新型真空沉积装置还包括真空检测表,设于所述腔体的后端外侧壁上、且与所述主控装置信号连接,用于检测所述内腔的实际真空值;
所述抽真空组件包括可开合的抽真空孔,开设于所述腔体的后端侧壁上、与所述内腔连通;当所述实际真空值达到预定真空值时,所述抽真空孔处于关闭状态。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述抽真空组件还包括真空泵,与所述抽真空孔连接;所述主控装置与所述抽真空组件信号连接,用于控制所述抽真空孔关闭。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述新型真空沉积装置还包括气压平衡组件;所述气压平衡组件包括可开合的进气孔,开设于所述腔体的后端侧壁上、与所述内腔连通,用于向所述内腔中充入外界气体。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述气压平衡组件还包括气压传感器,设于所述内腔中。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述新型真空沉积装置还包括样品载台,设于所述内腔中,用于水平放置样品。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述样品载台包括旋转组件,用于带动所述样品载台在水平面旋转。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述样品载台包括加热组件,用于对所述样品载台周围的气体进行加热。
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