[实用新型]一种待掘进体有效

专利信息
申请号: 202121820633.9 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN215804545U 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 于少辉;白中坤;任韶鹏;毕程程;赵修旺;薛永涛;甘雨;李明芳 申请(专利权)人: 中铁工程装备集团有限公司
主分类号: E21D9/00 分类号: E21D9/00;E21D9/10
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 王凯迪
地址: 450000 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 掘进
【权利要求书】:

1.一种待掘进体,其掘进面的边界线为轮廓线,其特征在于,包括截割区、轮廓修饰区和胀裂区,所述轮廓修饰区位于掘进面上距轮廓线设定距离的区域内,所述截割区和胀裂区位于掘进面上轮廓修饰区以外的区域;所述胀裂区位于截割区外围;

截割区内均匀设置有截割钻孔,轮廓修饰区沿轮廓线设置有修饰钻孔,胀裂区内围绕截割区设置有一排或多排胀裂钻孔,所述胀裂钻孔及修饰钻孔的孔间距小于最小胀裂抵抗线。

2.根据权利要求1所述的待掘进体,其特征在于,掘进面宽度小于等于8m,高度小于等于6.5m时,截割区设置为单个,且其设置在掘进面的空间中心位置处;掘进面宽度大于8m时,掘进面上至少设置2个截割区,截割区对称设置或均布设置。

3.根据权利要求2所述的待掘进体,其特征在于,所述截割区的宽度为1m-2.5m,高度为2m-4.5m。

4.根据权利要求3所述的待掘进体,其特征在于,所述胀裂区还包括补充孔,所述补充孔位于截割区和与截割区相邻的一排胀裂钻孔间或任意两排胀裂钻孔间或轮廓修饰区和与轮廓修饰区相邻的一排胀裂钻孔间。

5.根据权利要求4所述的待掘进体,其特征在于,所述截割钻孔在截割区逐行或逐列设置,相邻两行或两列的截割钻孔交错布置。

6.根据权利要求5所述的待掘进体,其特征在于,在胀裂区设置多排胀裂钻孔时,相邻两排胀裂钻孔的排间距为50cm-100cm。

7.根据权利要求6所述的待掘进体,其特征在于,所述截割钻孔、修饰钻孔、胀裂钻孔和补充孔的孔径为42mm-140mm。

8.根据权利要求7所述的待掘进体,其特征在于,截割钻孔的孔间距为50mm-100mm,修饰钻孔的孔间距为100mm,胀裂钻孔的孔间距为100mm-300mm,补充孔的孔间距为50mm-100mm。

9.根据权利要求8所述的待掘进体,其特征在于,所述截割钻孔、修饰钻孔和胀裂钻孔与待掘进体的掘进面正交,所述修饰钻孔沿轮廓线布设,与轮廓线形成的外插角为3°-5°。

10.根据权利要求9所述的待掘进体,其特征在于,截割钻孔、胀裂钻孔和补充孔的深度一致,修饰钻孔的深度大于截割钻孔深度。

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