[实用新型]离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构

说明书

本实用新型公开了离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构，包括装置箱，所述装置箱的内左壁设置有注入孔，所述装置箱的内底壁固定连接有操控箱，所述操控箱的前表面固定连接有电机，所述电机的输出端固定连接有丝杆，所述丝杆的侧表面螺纹连接有滑动板，所述操控箱的上表面固定连接有滑道，所述滑动板的上表面固定连接有连接板，所述连接板的上表面固定连接有第一电动缸，所述第一电动缸的输出端固定连接有安装板，所述安装板的上表面固定连接有第二支撑杆，所述安装板的上表面且位于第二支撑杆的右侧固定连接有第二电动缸。本实用新型，通过设置有操控箱和第一电动缸，便于控制靶盘线性运动和升降运动，结构简化，成本降低。

技术领域

本实用新型涉及离子注入机领域，尤其涉及离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构。

背景技术

离子注入机是制造半导体硅片的重要设备。为了保证注入到硅片离子剂量的均匀性，必须很好地控制靶盘的扫描运动，现代离子注入工艺对离子注入工艺的性能要求越来越高，随着晶片尺寸的增大，特征线宽的缩小，单圆片注入系统的优点越来越突出，逐渐成为新型高性能离子注入机的主流，一维机械扫描系统通过控制晶片一个方向作慢速机械扫描，另一个方向通过控制离子束作快速电扫描或对离子束进行扁宽束成形覆盖晶片范围，实现晶片全范围的注入，靶盘的扫描运动方法是：离子束流不动，靶盘既要调整注入倾斜角度，又要作上下往复平移运动。

现有的直接线性驱动扫描为线性运动真空密封，结构复杂，成本高。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构，包括装置箱，所述装置箱的内左壁设置有注入孔，所述装置箱的内底壁固定连接有操控箱，所述操控箱的前表面固定连接有电机，所述电机的输出端固定连接有丝杆，所述丝杆的侧表面螺纹连接有滑动板；

所述操控箱的上表面固定连接有滑道，所述滑动板的上表面固定连接有连接板，所述连接板的上表面固定连接有第一电动缸，所述第一电动缸的输出端固定连接有安装板，所述安装板的上表面固定连接有第二支撑杆，所述安装板的上表面且位于第二支撑杆的右侧固定连接有第二电动缸；

所述第二电动缸的输出端转动连接有连接杆，所述连接杆远离第二电动缸的一端转动连接有第一支撑杆，所述第一支撑杆远离连接杆的一端固定连接有靶盘。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述连接板位于滑道的上侧，且与滑道滑动连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第一支撑杆与第二支撑杆转动连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述靶盘的形状为圆形，所述靶盘位于注入孔的右侧。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述操控箱的上表面设置有滑槽，所述滑动板位于滑槽的内部。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述滑道的数量有两个，且位于滑槽的两侧。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述电机与装置箱固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第二支撑杆与第一电动缸位于同一竖直中心。

本实用新型具有如下有益效果：

1、与现有技术相比，该离子注入机中的靶盘垂直扫描运动机构，通过设置有操控箱和第一电动缸，便于控制靶盘线性运动和升降运动，结构简化，成本降低。