[实用新型]一种研磨结构和研磨装置有效
申请号: | 202121735883.2 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN217394654U | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 李瑞评;曾柏翔;杨良;张佳浩;陈铭欣 | 申请(专利权)人: | 福建晶安光电有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B45/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362411 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 结构 装置 | ||
本实用新型提供一种研磨结构,属于研磨技术领域,研磨结构包括:研磨盘与基座,所述研磨盘由多个研磨块构成;螺母,用于连接所述基座和所述研磨块,并调整研磨块的高度。本实用新型所提供的研磨结构,其研磨盘与基座设计为可拆卸式,便于进行清洗,其中构成研磨盘的多个研磨块可拆卸替换,避免因局部损伤导致整个研磨盘更换的问题,可有效提升研磨盘利用率;研磨块与基座之间通过螺母连接,研磨过程中可以通过调整螺母以调整研磨块的高度,使研磨盘保持较高的平整度,提高晶片表面的平坦度,减少研磨过程中修正盘型的时间,避免更换整个研磨盘,提高研磨效率。
技术领域
本实用新型涉及研磨技术领域,具体涉及一种研磨结构和研磨装置。
背景技术
晶片加工过程主要包括长晶、成型、抛光和清洗几个主要环节,其中,成型工序主要对产品的厚度、外形尺寸进行磨削。现有的研磨工艺中,常通过研磨盘对晶片进行研磨,使其达到指定厚度的表面平坦度。当前业内普遍使用铸铁、铝、铜等材质制成整块研磨盘,由于在研磨的同时研磨盘也会产生损耗,所以需要定期修整研磨盘盘型与更换研磨盘以保证研磨品质与效率,但现有研磨盘为整块铸成,更换时需要将研磨盘连同底部基座拆除进行更换,由于现有的研磨盘体积、重量较大使得更换研磨盘步骤繁琐且成本较高。
实用新型内容
鉴于上述传统的研磨盘所存在的问题,本实用新型提供一种研磨结构和研磨装置,用以解决现有研磨盘存在的更换步骤繁琐、成本较高、研磨盘需要定期修整盘型避免晶片平坦度降低的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型实施例采用以下技术方案:
第一方面,本实用新型实施例提供一种研磨结构,包括:
基座;
研磨盘,所述研磨盘由多个研磨块构成,所述研磨盘可拆卸地设在所述基座上;
螺母,用于连接所述基座和所述研磨块,并调整研磨块的高度。
可选地,在本实用新型一实施例中,所述研磨盘为圆环形。
可选地,在本实用新型一实施例中,相邻的两个所述研磨块之间间隔开限定出沟槽。
可选地,在本实用新型一实施例中,所述基座上设有沿所述基座的厚度方向贯穿的通孔,所述通孔与所述沟槽连通。
第二方面,本实用新型实施例提供一种研磨装置,包括上述实施例中所述的研磨结构。
可选地,在本实用新型一实施例中,所述研磨装置还包括,机体;驱动结构,所述驱动结构设在所述机体上,所述驱动结构与所述研磨结构的所述基座相连;浆料供应结构,所述浆料供应结构与所述沟槽连通。
可选地,在本实用新型一实施例中,所述研磨结构具有两个,两个所述研磨结构在所述研磨盘的轴向方向上间隔开,且两个所述研磨结构中的所述研磨盘相对设置。
可选地,在本实用新型一实施例中,所述研磨结构的加工对象为蓝宝石晶片、硅片等。
根据本实用新型所述的研磨结构,包括基座;研磨盘,所述研磨盘由多个研磨块构成,所述研磨盘可拆卸地设在所述基座上;螺母,用于连接所述基座和所述研磨块,并调整研磨块的高度,本实用新型所述的研磨结构,至少具备以下优点:
1.在本实用新型的研磨结构中,将研磨盘设计成可拆卸式,便于进行清洗,研磨盘可拆卸替换,避免因局部损伤导致整个研磨结构更换的问题,可有效提升研磨盘利用率。
2.通过研磨块与研磨块之间所形成的沟槽可以排除砂浆及碎屑,在使用过程中,可以将研磨盘从所述基座上拆卸下来,便于清洗沟槽中残留的砂浆及碎屑,防止出现砂浆及碎屑淤积,延长研磨盘寿命,使得加工过程中的砂浆流转均匀,提高晶片表面的平坦度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建晶安光电有限公司,未经福建晶安光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121735883.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种精冲成型模具及锥型齿零件
- 下一篇:微机电系统加速度计和设备