[实用新型]一种研磨结构和研磨装置有效
申请号: | 202121735883.2 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN217394654U | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 李瑞评;曾柏翔;杨良;张佳浩;陈铭欣 | 申请(专利权)人: | 福建晶安光电有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B45/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362411 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 结构 装置 | ||
1.一种研磨结构,其特征在于,所述研磨结构包括:
基座;
研磨盘,所述研磨盘由多个研磨块构成,所述研磨盘可拆卸地设在所述基座上;
螺母,用于连接所述基座和所述研磨块,并调整研磨块的高度,相邻的两个所述研磨块之间间隔开限定出沟槽。
2.根据权利要求1所述的一种研磨结构,其特征在于,所述研磨盘为圆环形。
3.根据权利要求1所述的一种研磨结构,其特征在于,所述基座上设有沿所述基座的厚度方向贯穿的通孔,所述通孔与所述沟槽连通。
4.一种研磨装置,其特征在于,包括如权利要求1~3中任意一项所述的研磨结构。
5.根据权利要求4所述的一种研磨装置,其特征在于,所述研磨装置还包括:机体;驱动结构,所述驱动结构设在所述机体上,所述驱动结构与所述研磨结构的所述基座相连;浆料供应结构,所述浆料供应结构与所述沟槽连通。
6.根据权利要求5所述的一种研磨装置,其特征在于,所述研磨结构具有两个,两个所述研磨结构在所述研磨盘的轴向方向上间隔开,且两个所述研磨结构中的所述研磨盘相对设置。
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