[实用新型]一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料

权利要求书

1.一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，包括圆柱形的陶瓷基座(1)，其特征在于：陶瓷基座(1)的上端面上成型有圆形的沉台(13)，沉台(13)的底面上成型有贯穿陶瓷基座(1)下端面并呈矩形的填料腔(11)，填料腔(11)内安设有填料组件(2)；所述填料腔(11)的前、后相对的内侧壁和左、右相对的内侧壁上分别成型有矩形的第一插槽(14)和第二插槽(15)，所述的填料组件(2)由第一组件(21)和第二组件(22)组成，第一组件(21)包括两块第一卡板(211)和若干排填充片，第二组件(22)包括两块第二卡板(221)和若干排填充片，第二组件(22)上的填充片和第一组件(21)上的填充片呈上、下交错分布；所述的第一卡板(211)和第二卡板(221)分别插接在陶瓷基座(1)的第一插槽(14)和第二插槽(15)内；所述陶瓷基座(1)的沉台(13)内螺接有圆环形的盖片(3)，盖片(3)抵靠在填料腔(11)顶部的填充片上。

2.根据权利要求1所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述陶瓷基座(1)的中心轴线和沉台(13)的中心轴线相重合，填料腔(11)的横截面呈正方形，填料腔(11)横截面的中心位于陶瓷基座(1)的中心轴线上。

3.根据权利要求1所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述陶瓷基座(1)的下端面上成型有与填料腔(11)相连通并呈圆锥形的导流槽口(12)，导流槽口(12)的中心轴线和陶瓷基座(1)的中心轴线相重合。

4.根据权利要求1所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述陶瓷基座(1)上的第一插槽(14)和第二插槽(15)均贯穿沉台(13)的底面，第一插槽(14)的长度和第二插槽(15)的长度分别大于第一卡板(211)的长度和第二卡板(221)的长度，第一卡板(211)的宽度和第二卡板(221)的宽度分别等于第一插槽(14)的宽度和第二插槽(15)的宽度。

5.根据权利要求4所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述第一组件(21)上的填充片设有两排，第一组件(21)的填充片由若干斜置的第一陶瓷片(212)组成，所述第一卡板(211)的侧壁上成型有与第一陶瓷片(212)相对的第一斜卡槽(2111)，第一卡板(211)上部的第一斜卡槽(2111)贯穿第一卡板(211)的上端面；

所述第二组件(22)上的填充片设有两排，第二组件(22)的填充片由若干斜置的第二陶瓷片(222)组成，所述第二卡板(221)的侧壁上成型有与第二陶瓷片(222)相对的第二斜卡槽(2211)，第二卡板(221)上部的第二斜卡槽(2211)贯穿第二卡板(221)的上端面。

6.根据权利要求5所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述第一组件(21)内上、下侧的第一陶瓷片(212)的倾斜方向相反；第二组件(22)内上、下侧的第二陶瓷片(222)的倾斜方向相反。

7.根据权利要求5所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述第一陶瓷片(212)和第二陶瓷片(222)的两侧壁上均成型有若干道筋条。

8.根据权利要求1所述的一种制备2,4二氯氟苯用塔式反应器内的陶瓷填料，其特征在于：所述盖片(3)上成型有若干个卡孔(31)，卡孔(31)绕盖片(3)的中心轴线呈环形均匀分布。