[实用新型]一种平面靶材研磨装置

说明书

一种平面靶材研磨装置，包括箱体、位于箱体内底部的定位组件和位于箱体内顶部的研磨组件；定位组件包括设置在箱体内底部的支撑座和两个相对设置在支撑座上端用于压紧平面靶材的转角下压气缸，两个转角下压气缸背离的侧面均水平设有伺服电缸A，伺服电缸A用于带动转角下压气缸左右移动；研磨组件包括从上到下依次设置在箱体内顶部的水平移动装置、升降装置和旋转装置，水平移动装置用于带动升降装置左右移动，升降装置用于带动旋转装置上下移动，旋转装置竖直设置且输出轴端部水平设有细磨盘。本实用新型结构简单，无需手工研磨，研磨效率高，研磨后产品一致性好。

技术领域

本实用新型涉及平面靶材制造技术领域，特别涉及一种平面靶材研磨装置。

背景技术

靶材作为镀膜工艺的原材料，常通过溅射工艺制备薄膜材料，各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用，靶材有管靶材和平面靶材，常用的平面靶材为矩形结构如图1所述，平面靶材1包括呈矩形的背板101和沿长度方向设置在背板101上端中心的靶材102，靶材102的长度小于背板101长度。

平面靶材在完成等离子喷涂后，其外表面需要进行研磨，由于平面靶材薄壁、细长、自重大，研磨时非常容易开裂，目前多数采用人工研磨，工人劳动强度大，研磨效率低，研磨不均匀，研磨后产品一致性不好。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种平面靶材研磨装置，结构简单，无需手工研磨，研磨效率高，研磨后产品一致性好。

本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是：一种平面靶材研磨装置，包括箱体、位于箱体内底部的定位组件和位于箱体内顶部的研磨组件；

所述定位组件包括设置在箱体内底部的支撑座和两个相对设置在支撑座上端用于压紧平面靶材的转角下压气缸，两个转角下压气缸背离的侧面均水平设有伺服电缸A，所述伺服电缸A用于带动转角下压气缸左右移动；

所述研磨组件包括从上到下依次设置在箱体内顶部的水平移动装置、升降装置和旋转装置，所述水平移动装置用于带动升降装置左右移动，所述升降装置用于带动旋转装置上下移动，所述旋转装置竖直设置且输出轴端部水平设有细磨盘。

进一步地，所述转角下压气缸包括活塞杆，所述活塞杆上水平设有压紧杆，且压紧杆与活塞杆形成7形，所述压紧杆底部竖直设有压紧螺栓，且压紧螺栓与压紧杆呈倒L形，所述压紧杆底部设有螺纹沉孔，压紧螺栓旋入螺纹沉孔内且能够沿竖直方向螺旋上下移动。

进一步地，所述伺服电缸A的推杆与转角下压气缸可拆卸固定连接。

进一步地，所述水平移动装置包括滑轨、伺服电机、滚珠丝杠和螺母座，所述滑轨水平设置在箱体内顶部，滑轨上滑动设有滑座，所述伺服电机设置在箱体内侧壁上且位于滑轨下方，所述滚珠丝杠水平设置且一端与伺服电机的输出轴连接，另一端与伺服电机相对的侧壁转动连接，所述螺母座设置在滚珠丝杠上，螺母座的上端与滑座可拆卸固定连接。

进一步地，所述升降装置包括伺服电缸B，所述伺服电缸B设在螺母座底部且推杆竖直朝下设置，旋转装置设置在伺服电缸B的推杆下端。

进一步地，所述旋转装置为调速电机。

进一步地，所述细磨盘的直径大于平面靶材的宽度。

进一步地，所述细磨盘为金刚石磨盘。

根据上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过两个转角下压气缸对平面靶材进行压紧固定，在水平移动装置、升降装置和旋转装置的作用下细磨盘对平面靶材进行研磨，无需人工研磨，研磨效率快，研磨后产品一致性好，工人劳动强度小；并且在箱体内研磨，避免了外部污染物进入对平面靶材造成损坏。