[实用新型]一种显微镜载台晶圆承片治具有效
申请号: | 202121034725.4 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN214477363U | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 李凯文 | 申请(专利权)人: | 湘能华磊光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 张勇;周晓艳 |
地址: | 423038 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显微镜 载台晶圆承片治具 | ||
本实用新型提供了一种显微镜载台晶圆承片治具。包括治具本体,所述治具本体上设有晶圆放置部;所述晶圆放置部上设有沉槽,所述沉槽一侧设有延伸至治具本体侧面的缺口。本实用新型通过在治具本体上设置晶圆放置部,便于将晶圆放置在治具本体上,随治具本体移动,便于在显微镜下进行观测;晶圆放置部上设有用于容纳吸笔的沉槽,沉槽一侧设有延伸至治具本体侧面的缺口,便于操作人员将吸笔从治具本体侧面的缺口伸入晶圆下方,对晶圆下表面进行吸附,实现晶圆的转移,避免对晶圆的观测面造成污染。
技术领域
本实用新型涉及检测装置领域,具体涉及一种显微镜载台晶圆承片治具。
背景技术
通过显微镜对晶圆进行观测时,需不断移动晶圆的观测位置,而直接通过人工挪动晶圆,容易导致晶圆表面沾染油污,影响观测结果,若通过吸笔对晶圆上表面进行吸附取放,会导致晶圆上表面沾染污渍;若通过吸笔对晶圆下表面进行吸附取放,吸笔与载台之间会存在干涉,操作不便。
综上所述,急需一种显微镜载台晶圆承片治具以解决现有技术中存在的问题。
实用新型内容
本实用新型目的在于提供一种显微镜载台晶圆承片治具,以解决在显微镜下观测晶圆时晶圆的取放的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种显微镜载台晶圆承片治具,包括治具本体,所述治具本体上设有晶圆放置部;所述晶圆放置部上设有沉槽,所述沉槽一侧设有延伸至治具本体侧面的缺口。
优选的,所述晶圆放置部上设有弧形挡边。
优选的,所述治具本体上设有手柄。
优选的,所述手柄位于治具本体远离沉槽的缺口的一侧。
优选的,所述手柄上设有防滑纹。
优选的,所述治具本体底面为平面。
优选的,所述治具本体底面设有减阻涂层。
优选的,所述治具本体的材质为绝缘材料。
优选的,所述治具本体的材质为电木板。
应用本实用新型的技术方案,具有以下有益效果:
(1)本实用新型中,通过在治具本体上设置晶圆放置部,便于将晶圆放置在治具本体上,随治具本体移动,便于在显微镜下进行观测;晶圆放置部上设有用于容纳吸笔的沉槽,沉槽一侧设有延伸至治具本体侧面的缺口,便于操作人员将吸笔从治具本体侧面的缺口伸入晶圆下方,对晶圆下表面进行吸附,实现晶圆的转移,避免对晶圆的观测面(即上表面)造成污染。
(2)本实用新型中,通过在晶圆放置部上设置弧形挡边,用以实现对晶圆的圆周侧面的抵靠。
(3)本实用新型中,治具本体上设有手柄,便于操作人员通过手柄移动治具本体和治具本体上的晶圆,用以实现显微镜头下晶圆观测位置的移动。
(4)本实用新型中,手柄位于治具本体远离沉槽的缺口的一侧,便于操作人员从治具本体的一侧放置晶圆,从治具本体的另一侧通过手柄移动治具本体,避免操作人员手持手柄时,晶圆对操作人员的手造成干涉。
(5)本实用新型中,治具本体底面为平面,便于治具本体在载台上移动;治具本体底面设有减阻涂层,用以减少治具本体底面与显微镜载台上表面之间的摩擦力。
(6)本实用新型中,治具本体的材质为绝缘材料,优选材质为电木板,具有较好的绝缘性、不产生静电、耐磨及耐高温等特点,有利于晶圆的防护。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本实用新型作进一步详细的说明。
附图说明
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造