[实用新型]一种沐足盆用可移动机构有效

专利信息
申请号: 202120885043.8 申请日: 2021-04-27
公开(公告)号: CN215533850U 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 徐恺;董丽;田林 申请(专利权)人: 昆山德享智能科技有限公司
主分类号: A47K3/022 分类号: A47K3/022
代理公司: 北京棘龙知识产权代理有限公司 11740 代理人: 李改平
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 沐足盆用可 移动 机构
【说明书】:

实用新型公开了一种沐足盆用可移动机构,包括沐足盆本体,沐足盆本体底端的边角处均设置有滚动机构和限位机构,沐足盆本体的中部设置有支撑机构,限位机构包含四个限位块、四个拉伸弹簧、四个限位杆、两个顶杆和两个螺纹杆,两个螺纹杆的两端分别与沐足盆本体的两端螺纹穿插连接,支撑机构包含四个滑槽、四个支撑柱、两个转动杆、四个齿轮、两个连接皮带和两个连接槽,齿轮与支撑柱的一侧啮合连接。本实用新型利用限位机构与支撑机构相配合的设置方式,通过限位机构便于对滚动机构进行位置限定,使其滚动机构不会随意滚动,通过支撑柱的设置便于对沐足盆本体进行再次位置限定,使其在使用过程中的位置更加稳定。

技术领域

本实用新型涉及沐足盆领域,特别涉及一种沐足盆用可移动机构。

背景技术

随着现代沐足盆种类的增多,现有的一些沐足盆通过电源来控制水温,同时能自动控制水温并保持恒温,能节约用水,同时又可避免因频繁添加热水,有的厂家为提高沐足的保健效果,还给沐足盆设计了足底按摩器、震荡器等,能够一边沐足一边按摩足部,增加了沐足盆的功能。

现有的一些沐足盆会在底部安装滚轮,使沐足盆的移动更加便捷,由于在沐足时一些地面会呈现一些坡面,沐足盆上的一些滚轮容易出现滑动现象,导致沐足盆的位置不稳定,影响到沐足效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种沐足盆用可移动机构,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种沐足盆用可移动机构,包括沐足盆本体,所述沐足盆本体底端的边角处均设置有滚动机构和限位机构,所述沐足盆本体的中部设置有支撑机构;

所述限位机构包含四个限位块、四个限位杆、两个顶杆和两个螺纹杆,所述螺纹杆与顶杆的中部转动连接,两个所述螺纹杆的两端分别与沐足盆本体的两端螺纹穿插连接;

所述支撑机构包含四个滑槽、四个支撑柱、两个转动杆、四个齿轮和两个连接槽,所述齿轮与支撑柱的一侧啮合连接。

优选的,所述滚动机构包含四个滚动槽、四个滚轮和四个转动轴,所述滚动槽分别开设于沐足盆本体底端的边角处,所述滚轮与滚动槽的内腔滚动连接。

优选的,所述转动轴与滚轮的中部固定穿插连接,所述转动轴的两端通过轴承与滚动槽的内壁转动穿插连接。

优选的,所述四个所述限位块相背的一端均与限位杆的一端固定连接,相邻两个所述限位杆的另一端与顶杆的两端固定连接。

优选的,所述支撑柱与滑槽的内腔滑动连接,所述连接槽开设于相邻两个滑槽的一侧。

优选的,同一侧两个所述齿轮固定于转动杆的两端,所述转动杆的一端固定连接有转动盘。

优选的,所述沐足盆本体的一侧开设有两个卡槽,所述卡槽的内腔滑动连接有卡杆。

本实用新型的技术效果和优点:

(1)本实用新型利用限位机构与支撑机构相配合的设置方式,通过限位机构便于对滚动机构进行位置限定,使其滚动机构不会随意滚动,通过支撑柱的设置便于对沐足盆本体进行再次位置限定,使其在使用过程中的位置更加稳定;

(2)本实用新型利用齿轮与转动盘相配合的设置方式,通过转动盘的转动,使其中一个转动杆转动,通过转动盘,使沐足盆本体底部两端的转动杆均能进行转动,通过齿轮与支撑柱的啮合连接,使支撑柱能对沐足盆本体进行位置支撑。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图。

图2为本实用新型整体侧面剖视结构示意图。

图3为本实用新型图2中A处局部放大结构示意图。

图4为本实用新型顶杆处俯面剖视结构示意图。

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