[实用新型]一种光罩显影专用显影槽

说明书

本实用新型公开了一种光罩显影专用显影槽，包括槽本体，槽本体固定于支撑架上，槽本体内腔安装多孔放置板，多孔放置板与槽本体底壁之间设置容纳仓，容纳仓底壁安装导热板，槽本体底端面安装加热板，还包括搅拌组件，搅拌组件安装于容纳仓，本实用新型结构设计新颖，能够实现对显影液的恒温加热和搅拌，能够提高光罩显影均匀性和显影质量。

技术领域

本实用新型涉及光罩显影技术领域，具体为一种光罩显影专用显影槽。

背景技术

光罩(英文:Reticle, Mask):在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片上。业内又称光掩模版、掩膜版，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为:曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。

光罩载曝光后需要进行显影，而现有的显影槽结构单一，无法有效的提高显影均匀性，因此，有必要进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光罩显影专用显影槽，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光罩显影专用显影槽, 包括槽本体，所述槽本体固定于支撑架上，所述槽本体内腔安装多孔放置板，所述多孔放置板与所述槽本体底壁之间设置容纳仓，所述容纳仓底壁安装导热板，所述槽本体底端面安装加热板，还包括搅拌组件，所述搅拌组件安装于容纳仓。

优选的，本申请提供的一种光罩显影专用显影槽，其中，所述搅拌组件包括搅拌叶、转轴和搅拌电机，所述搅拌电机安装于支撑架，所述转轴一端与搅拌电机的输出轴传动连接，所述转轴另一端贯穿槽本体底壁并伸入容纳仓内，所述搅拌叶安装于转轴外部。

优选的，本申请提供的一种光罩显影专用显影槽，其中，所述加热板包括第一加热板和第二加热板，所述第一加热板和第二加热板设置于转轴两侧。

优选的，本申请提供的一种光罩显影专用显影槽，其中，所述第一加热板和第二加热板结构完全一致，包括板体，所述板体内开设多个通槽，每个所述的通槽内均安装电加热管。

优选的，本申请提供的一种光罩显影专用显影槽，其中，所述导热板采用碳化硅导热板。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构设计新颖，能够实现对显影液的恒温加热和搅拌，能够提高光罩显影均匀性和显影质量。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型加热板结构示意图；

图中：槽本体1、支撑架2、多孔放置板3、容纳仓4、第一加热板5、加热板6、搅拌叶7、转轴8、搅拌电机9、第二加热板10、板体11、通槽12、电加热管13。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。