[实用新型]一种小尺寸掩膜版定位装置有效
申请号: | 202120860311.0 | 申请日: | 2021-04-25 |
公开(公告)号: | CN214751328U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 林超;林伟 | 申请(专利权)人: | 成都路维光电有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 史丽红 |
地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 掩膜版 定位 装置 | ||
本实用新型公开了一种小尺寸掩膜版定位装置,包括主体板和两个垫板,主体板具有第一端部和第二端部,第一端部和第二端部的内侧壁相互垂直,且均成型有多个第一凸起;两个垫板分别设置在第一端部和第二端部的上表面,两个垫板的内侧壁相互垂直,且均成型有多个第二凸起。能够实现小尺寸掩膜版精准定位并提高图像精度。本实用新型优点是:主体板两个相互靠近的内侧壁相互垂直,可以解决高世代掩膜版光刻机不能实现小尺寸掩膜版,自动上版而导致位置精度偏差的问题,结构简单、操作方便、使用灵活,避免了因人工放置小尺寸掩膜版而导致的位置及图形精度的偏差。
技术领域
本实用新型涉及掩膜版制造技术领域,特别涉及一种小尺寸掩膜版定位装置。
背景技术
掩膜版又称光掩膜版、光罩,由石英玻璃作为基板衬底,首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层,然后在铬层上面涂覆光刻胶使其成为一种感光材料,把设计好的电路图形通过电子激光设备使光刻胶感光,被曝光的区域通过显影、蚀刻在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模母版。近年来国内新型显示面板产量逐年增加,对显示器件的性能要求、画面质感等要求也越来越高,因此对掩膜版的图形精度、特征值要求也越来越苛刻。
在高精度掩膜版的制造过程中,光刻曝光环节是最为重要的一步。光刻曝光是指光刻机通过发射出的激光对已经涂好光刻胶的掩膜版基板进行图形的刻画,从而将电路图形转移到被曝光的光刻胶区域,然后通过后续的显影蚀刻工艺将电路图形最终体现到铬层上,这就初步完成了工业用掩膜版的生产制造,最后再通过检修、清洗等环节完成掩膜版的制造。
在高精度大尺寸掩膜版的生产制造前或是对光刻工艺参数进行测试验证,通常会先用4英寸、5英寸及6英寸的小尺寸掩膜版对光刻工艺参数进行测试,获取图形CD值及精度等,以准确抓取最后生产用光刻工艺参数来满足设计值。但在高世代大尺寸掩膜版制造的光刻机的加载单元无法应对过小尺寸的掩膜版(6英寸及以下),即无法通过自动上版来实现小尺寸掩膜版的装载。目前的做法是通过人直接将小尺寸掩膜版放到光刻机平台上,然后将位置通过大致调整后进行光刻。
实用新型内容
本实用新型目的在于提供一种小尺寸掩膜版定位装置,能够实现小尺寸掩膜版精准定位并提高图像精度。
本实用新型的实施例是这样实现的:
本申请所提供一种小尺寸掩膜版定位装置,包括主体板和两个垫板,所述主体板具有第一端部和第二端部,所述第一端部和所述第二端部的内侧壁相互垂直,且均成型有多个第一凸起,所述第一端部内侧壁的多个第一凸起的端头与所述第二端部内侧壁的多个所述第一凸起的端头共同形成直角型的第一定位区域,第一凸起的端头若干个,并且都是间隔均匀布置,组成一个直角,凸起的高度也一致,凸起的端可以抵的住掩膜版的侧边,达到一个对齐限位的作用;两个所述垫板分别设置在所述第一端部和所述第二端部的上表面,两个所述垫板的内侧壁相互垂直,且均成型有多个第二凸起,其中一个所述垫板内侧壁的多个所述第二凸起的端头与另一个所述垫板内侧壁的多个所述第二凸起的端头共同形成直角型的第二定位区域,第二凸起的端头若干个,并且都是间隔均匀布置,组成一个直角,凸起的高度也一致,凸起的端可以抵的住掩膜版的侧边,达到一个对齐限位的作用;所述第一定位区域与所述第二定位区域在竖直方向上的投影相同,所述第一定位区域和所述第二定位区域为一个可放置掩膜版的区域。
需要说明的是,凸起可以实现对小尺寸掩膜版的点支撑的同时,并且可以减少与掩膜版侧面的接触面积。
现有技术是通过人直接将小尺寸掩膜版放到光刻机平台上,然后将位置通过大致调整后进行光刻,这样存在明显的缺点是:每次放置的位置不一样;每次位置调整的精度难以把控;曝光的居中性较差,即刻画出的图形与版边的水平竖直存在斜度,最终影响图形精度。
本实用新型增加了L型主体板以及两个垫板,且主体板的两个相互靠近的内侧壁相互垂直,并通过主体板和垫板上的凸点抵住掩膜版的边缘,从而实现对掩膜版进行定位,避免了人工每次放置位置不一样的缺陷。
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