[实用新型]一种高洁净度APCVD成膜设备

权利要求书

1.一种高洁净度APCVD成膜设备，其特征在于：包括APCVD成膜组件（1），所述的APCVD成膜组件（1）前端设有与APCVD成膜组件（1）呈一体化的风机过滤仓（3），所述的风机过滤仓（3）前端设有粘尘垫（6）；所述的APCVD成膜组件（1）包括成膜箱体（8），所述的成膜箱体（8）下端设有成膜机架（7），所述的成膜机架（7）与成膜箱体（8）间设有加热器（15），所述的成膜箱体（8）内设有衬底（14），所述的成膜箱体（8）上端设有与衬底（14）相连通的主反应剂进料管（10），所述的主反应剂进料管（10）两端均设有与衬底（14）相连通的辅助反应剂进料管（9）。

2.根据权利要求1所述的一种高洁净度APCVD成膜设备，其特征在于：所述的辅助反应剂进料管（9）与主反应剂进料管（10）间设有与主反应剂进料管（10）相嵌套连接且与成膜箱体（8）相连通的排气管道（11）。

3.根据权利要求1所述的一种高洁净度APCVD成膜设备，其特征在于：所述的成膜箱体（8）内壁上端设有若干与辅助反应剂进料管（9）相连通的喷嘴（13）。

4.根据权利要求3所述的一种高洁净度APCVD成膜设备，其特征在于：所述的喷嘴（13）与辅助反应剂进料管（9）间设有分流管（12）。

5.根据权利要求1所述的一种高洁净度APCVD成膜设备，其特征在于：所述的风机过滤仓（3）下端设有镂空地板（4），所述的风机过滤仓（3）上端设有若干呈阵列式分布的静电消除器（2）。

6.根据权利要求1所述的一种高洁净度APCVD成膜设备，其特征在于：所述的粘尘垫（6）与风机过滤仓（3）间设有除尘隔离仓（5）。