[实用新型]清洁基站及清洁系统

说明书

本实用新型公开一种清洁基站及清洁系统，涉及清洁设备技术领域，用于解决现有清洁基站的清洁效果较差，清洁效率低下的技术问题。本实用新型的清洁基站包括本体，还包括清洁槽和清洗组件，清洁槽设置在本体上，且清洁槽被配置为可容纳清洁液体，清洗组件包括超声波发生器，超声波发生器设置在清洁槽的侧方槽壁上。本实用新型用于对清洁装置进行清洁。

技术领域

本实用新型涉及清洁设备技术领域，具体涉及一种清洁基站及清洁系统。

背景技术

随着人们生活水平的提高，清洁装置越来越多地应用到人们的日常生活中。清洁装置除了传统的吸尘功能外，还具有用于与地面发生相对转动而清洁地面的滚刷件。该类型的清洁装置一般配备有清洁基站，清洁基站可以设有水箱和水槽，水箱用于为水槽提供清洁用水。清洁时，将滚刷件浸入水槽内并转动滚刷件，操作人员利用清洁刷等对滚刷件进行清洁。然而，上述相关技术中的清洁基站的清洁效果较差，清洁效率低下。

实用新型内容

本实用新型提供一种清洁基站及清洁系统，清洁效果较好，且清洁效率也较高。

为实现上述目的，本实用新型第一方面提供一种清洁基站，包括本体，该清洁基站还包括清洁槽和清洗组件，清洁槽设置在本体上，且清洁槽被配置为可容纳清洁液体，清洗组件包括超声波发生器，超声波发生器设置在清洁槽的侧方槽壁上。

在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以做如下改进：

在一种可能的实施例中，超声波发生器为多个，且多个超声波发生器分别贴附在清洁槽的相对两侧的槽壁上。

在一种可能的实施例中，本体上设置有顶部具有开口的中空腔体，清洁槽盖设在开口上，超声波发生器贴附在清洁槽的面向中空腔体内部的壁面上。

在一种可能的实施例中，清洁槽设置在本体的顶部，且清洁槽的槽口位于清洁槽顶面。

在一种可能的实施例中，清洁槽的沿长度方向的两侧槽壁之间的间距由槽底至槽口逐渐增大。

在一种可能的实施例中，清洗组件还包括设置在清洁槽中的刮条，刮条被配置为与清洁装置的清洁部件表面抵接，以对清洁部件的表面清洁。

在一种可能的实施例中，刮条悬空设置在清洁槽的槽口区域，且刮条沿清洁槽的长度方向延伸。

在一种可能的实施例中，刮条的两个端部分别连接于清洁槽的沿长度方向两端的槽壁上。

在一种可能的实施例中，刮条在清洁槽内的高度低于清洁槽的工作水位线。

在一种可能的实施例中，刮条的数量为多个，且各刮条平行间隔设置。

在一种可能的实施例中，本体的顶部具有定位槽，定位槽的槽壁形状与清洁装置的外形相互匹配，定位槽的槽底具有定位部，定位部被配置为和清洁装置的行走机构匹配抵接。

在一种可能的实施例中，定位部为多个，多个定位部包括开设在定位槽槽底的滚轮槽、以及由定位槽的槽底向上伸出的止挡凸起；或者，多个定位部包括开设在定位槽槽底的滚轮槽；或者，多个定位部包括由定位槽的槽底向上伸出的止挡凸起。

在一种可能的实施例中，清洁槽内还设有液位传感器，液位传感器被配置为检测清洁槽内的清洁液体的液位。

本实用新型第二方面提供一种清洁系统，包括清洁装置以及上述任一技术方案所述的清洁基站，清洁装置包括储液箱组件和清洁部件，储液箱组件被配置为向清洁槽内提供清洁液体，清洁装置位于清洁基站上时，清洁部件伸入清洁基站中的清洁槽内。

上述技术方案中的一个或多个技术方案至少具有如下技术效果：