[实用新型]清洁基站及清洁系统

权利要求书

1.一种清洁基站，包括本体，其特征在于，还包括清洁槽和清洗组件，所述清洁槽设置在所述本体上，且所述清洁槽被配置为可容纳清洁液体，所述清洗组件包括超声波发生器，所述超声波发生器设置在所述清洁槽的侧方槽壁上。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述超声波发生器为多个，且多个所述超声波发生器分别贴附在所述清洁槽的相对两侧的槽壁上。

3.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述本体上设置有顶部具有开口的中空腔体，所述清洁槽盖设在所述开口上，所述超声波发生器贴附在所述清洁槽的面向所述中空腔体内部的壁面上。

4.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁槽设置在所述本体的顶部，且所述清洁槽的槽口位于所述清洁槽顶面。

5.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁槽的沿长度方向的两侧槽壁之间的间距由槽底至槽口逐渐增大。

6.根据权利要求1-5任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述清洗组件还包括设置在所述清洁槽中的刮条，所述刮条被配置为与清洁装置的清洁部件表面抵接，以清洁所述清洁部件的表面。

7.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述刮条悬空设置在所述清洁槽的槽口区域，且所述刮条沿所述清洁槽的长度方向延伸。

8.根据权利要求7所述的清洁基站，其特征在于，所述刮条的两个端部分别连接于所述清洁槽的沿长度方向两端的槽壁上。

9.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述刮条在所述清洁槽内的高度低于所述清洁槽的工作水位线。

10.根据权利要求6所述的清洁基站，其特征在于，所述刮条的数量为多个，且各所述刮条平行间隔设置。

11.根据权利要求1-5任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述本体的顶部具有定位槽，所述定位槽的槽壁形状与清洁装置的外形相互匹配，所述定位槽的槽底具有定位部，所述定位部被配置为和所述清洁装置的行走机构匹配抵接。

12.根据权利要求11所述的清洁基站，其特征在于，所述定位部为多个，

多个所述定位部包括开设在所述定位槽槽底的滚轮槽、以及由所述定位槽的槽底向上伸出的止挡凸起；或者，

多个所述定位部包括开设在所述定位槽槽底的滚轮槽；或者，

多个所述定位部包括由所述定位槽的槽底向上伸出的止挡凸起。

13.一种清洁系统，其特征在于，包括清洁装置以及上述权利要求1-12任一项所述的清洁基站，所述清洁装置包括储液箱组件和清洁部件，所述储液箱组件被配置为向所述清洁槽内提供清洁液体，所述清洁装置位于所述清洁基站上时，所述清洁部件伸入所述清洁基站中的清洁槽内。