[实用新型]一种分段吸附喷绘平台有效
申请号: | 202120527836.2 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN214928292U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 张波;高梁伟 | 申请(专利权)人: | 广州晶慧实业有限公司 |
主分类号: | B41J11/00 | 分类号: | B41J11/00 |
代理公司: | 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 | 代理人: | 郑永泉 |
地址: | 511340 广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 分段 吸附 喷绘 平台 | ||
1.一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,包括:平台主体、负压装置;所述平台主体设有多个独立吸附区域,独立吸附区域的顶部设有吸附孔、底部设有吸风口;所述吸附孔与吸风口连通;所述吸风口通过管道与负压装置连接,且管道上设有气体流通开关。
2.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,所述平台主体包括:平台底盖、承料板;所述吸风口设置于平台底盖上;所述吸附孔设置于承料板上;所述平台底盖上设有开口向上的第一凹槽,第一凹槽开口与承料板底部轮廓相匹配;所述第一凹槽内设有多个隔板;所述隔板分隔平台主体形成多个独立吸附区域。
3.根据权利要求2所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,所述平台主体还包括:横截面形状为V字型的侧板;所述侧板设置在平台主体两侧,且V字开口朝向平台主体内侧。
4.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,所述平台主体表面设有多个缝隙状的第二凹槽;所述吸附孔设置于第二凹槽中。
5.根据权利要求4所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,所述第二凹槽在平台表面呈纵向和/或横向排布。
6.根据权利要求4所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,两个以上的第二凹槽交叉形成一个凹槽单元,横向排布的凹槽单元形成一个平台单元;所述平台表面纵向设有一个以上的平台单元。
7.根据权利要求4所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,所述第二凹槽的槽口宽度为0.2cm至1cm之间,深度为0.2至1cm之间。
8.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,多个独立吸附区域相应的管道通过分流盒与负压装置连接。
9.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,还包括:控制器和多个传感器;所述控制器分别与气体流通开关、多个传感器连接;所述多个传感器分别安装在独立吸附区域,用于检测各独立吸附区域内是否存在待喷绘介质。
10.根据权利要求2所述的一种分段吸附喷绘平台,其特征在于,所述平台底盖于每个独立吸附区域的底部还设有多个调节气口;所述调节气口受控制以连通或不连通外界。
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