[实用新型]一种光刻机反应腔的内衬有效

专利信息
申请号: 202120258178.1 申请日: 2021-01-29
公开(公告)号: CN214067576U 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;陈春磊 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 王岩
地址: 315400 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 反应 内衬
【权利要求书】:

1.一种光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述光刻机反应腔的内衬包括层叠设置的圆筒状本体与圆环状底座;

所述圆筒状本体的侧壁设置有晶圆片传送口;

所述圆环状底座的侧壁围绕圆周设置有至少1排贯通孔。

2.根据权利要求1所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述圆筒状本体远离圆环状底座的顶面设置有至少3个定位销孔。

3.根据权利要求1所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述晶圆片传送口为长条状镂空。

4.根据权利要求3所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述长条状镂空的窄边长度为圆筒状本体高度的1/3-1/2;

所述长条状镂空的宽边长度为圆筒状本体周长的1/3-1/2。

5.根据权利要求3所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述长条状镂空的窄边侧壁与圆筒状本体的内壁相切。

6.根据权利要求1所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述贯通孔为圆形槽孔。

7.根据权利要求6所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述圆形槽孔的孔径为4-6mm。

8.根据权利要求1所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述圆筒状本体的内径为300-350mm;

所述圆筒状本体的内径与圆环状底座的内径相等。

9.根据权利要求1所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述圆筒状本体的外径为350-400mm;

所述圆筒状本体的外径小于圆环状底座的外径8-10mm。

10.根据权利要求1所述的光刻机反应腔的内衬,其特征在于,所述圆筒状本体的高度为100-120mm;

所述圆环状底座的高度为15-25mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料股份有限公司,未经宁波江丰电子材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120258178.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top