[实用新型]一种坩埚及蒸镀装置有效
| 申请号: | 202120234688.5 | 申请日: | 2021-01-27 |
| 公开(公告)号: | CN215628249U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
| 发明(设计)人: | 杨佳伟;孙凌霄 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 宋朝政 |
| 地址: | 510000 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 坩埚 装置 | ||
本实用新型公开一种坩埚及蒸镀装置,其中,坩埚包括坩埚本体,所述坩埚本体具有容纳空间,所述坩埚本体的顶部具有连通所述容纳空间的开口,所述坩埚本体的底部的至少一部分向所述开口方向延伸以形成导热柱,所述导热柱内部设有贯通所述坩埚本体的底部的加热孔。本实用新型的技术方案通过采用热辐射的方式分别从坩埚本体外壁以及加热孔孔壁同时对坩埚本体内的材料进行加热,通过双向同时加热的方式实现坩埚本体内的材料均匀受热,由于材料均匀受热因此材料蒸发速率能保持在较为稳定的状态,减少了材料爆冲现象。
技术领域
本实用新型涉及坩埚技术领域,特别涉及一种坩埚及蒸镀装置。
背景技术
在OLED显示面板生产中,制备蒸镀薄膜时可以通过坩埚将有机发光材料或金属以热蒸发的方式累积在基板上。点源(point source)坩埚在镀膜的过程中需要保持稳定的蒸发速率从而可以生成均匀的薄膜,通常使用PID调节器(将生产过程参数的测量值与给定值进行比较,得出偏差后根据一定的调节规律产生输出信号推动执行器消除偏差量,使该参数保持在给定值附近或按预定规律变化的控制器)保持稳定地蒸发速率,PID调节器只能调节蒸发速率不稳定的现象,而产生蒸发速率不稳定的主要因素是坩埚内材料的受热不均匀,现有坩埚的受热方式是坩埚周围分布加热丝以热辐射的方式受热,所以坩埚内的材料越靠近坩埚壁的材料先受热,再通过材料间热传导的方式向坩埚中心传递,坩埚的这种加热方式是导致材料受热不均从而造成材料蒸发速率不稳定现象频发的主要原因。
因此,设计一种使材料均匀受热,保持稳定的蒸发速率,生成均匀性良好的薄膜的坩埚尤为重要。
为了解决材料受热均匀性,技术人员已研发探索了一些新技术,例如现有的一种坩埚,请参考图1:在现有的坩埚001内安装金属十字均热板002,使坩埚001壁的热量通过均热板能更快地向坩埚内传递,金属十字均热板002周围的材料也能更快受热,实现坩埚内的材料受热相对均匀。
虽然在现有的坩埚001内安装金属十字均热板002可以实现坩埚内材料受热相对均匀,但也容易造成坩埚内某个点的材料受热突然过多,特别是夹角处的材料通常会受热过多而使温度略高于其周围材料温度,从而导致蒸发速率突然变大,严重会使材料直接从坩埚口喷出,该过程称作材料爆冲现象。材料爆冲现象会影响PID控制系统,因此为了防止材料爆冲现象对正在镀膜的基板造成影响,通常在现有的坩埚001内安装防震板003,防震板003用于防止材料从坩埚口喷出,缓冲材料爆冲现象。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提出一种坩埚及蒸镀装置,旨在解决坩埚在镀膜的过程中材料受热不均匀以及蒸发速率不稳定的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提出一种坩埚,其包括坩埚本体,所述坩埚本体具有容纳空间,所述坩埚本体的顶部具有连通所述容纳空间的开口,所述坩埚本体的底部的至少一部分向所述开口方向延伸以形成导热柱,所述导热柱内部设有贯通所述坩埚本体的底部的加热孔。
优选地,还包括:坩埚盖,所述坩埚盖与所述开口盖合设置,所述坩埚盖上开设有连通所述开口的通气孔。
优选地,所述坩埚盖的顶面具有围绕所述通气孔且朝远离所述导热柱延伸设置的导向管。
优选地,所述通气孔的孔径小于所述导热柱外径。
优选地,所述导热柱的顶面与所述通气孔之间设置有流通间距。
优选地,所述导热柱的中心轴与所述坩埚本体的中心轴同轴设置。
优选地,所述导热柱的中心轴与所述加热孔的中心轴同轴设置。
优选地,所述导热柱的中心轴与所述通气孔的中心轴同轴设置。
优选地,所述坩埚盖与所述坩埚本体螺纹连接,所述坩埚盖包括相连的盖面和螺纹连接部,螺纹连接部内壁设有内限位台阶,所述内限位台阶的大端朝向所述坩埚本体的一侧设置有与坩埚本体连接的内螺纹。
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