[发明专利]一种增加光二次吸收的MWT组件的制造、封装方法在审
| 申请号: | 202111658372.X | 申请日: | 2021-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN114005909A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
| 发明(设计)人: | 王伟;路忠林;张凤鸣;季丽;刘锐;陈伟;徐建华 | 申请(专利权)人: | 南京日托光伏新能源有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 徐晓鹭 |
| 地址: | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 增加 二次 吸收 mwt 组件 制造 封装 方法 | ||
本发明公开了一种增加光二次吸收的MWT组件及其制造、封装方法,在现有MWT的基础上,电池片正面图形保持原先的设计,电池背面采用铝栅线的形式代替目前的全铝背场设计;适配组件端单玻搭配高反背板,能够增加光的二次吸收,提高了光的利用率,有效提高组件综合发电效率。
技术领域
本申请涉及太阳能电池生产技术领域,尤其是涉及一种增加光二次吸收的MWT组件的制造、封装方法。
背景技术
目前MWT电池采用单面设计,背面采用全铝背场的设计,组件端为单玻组件,目前背接触采用芯板设计,无法做双玻组件,背面发电率无法利用,而常规电池逐渐发展为双面电池设计,背面采用铝栅线的设计,组件端采用双玻组件,双玻组件可双面发电。
MWT采用芯板背接触方式,目前无法制作双玻组件,但电池端可以采用铝栅线设计,组件端用单玻组件方案,长波光透过电池背面,通过背板反射进入电池背面,光再次吸收,组件功率提升,发电量增加。
单面电池背面有全面积铝层覆盖,会吸收更多入射的长波光也会影响对内反射光的吸收,降低了对光的利用率,MWT失去了背面发电的优势,MWT背接触方式硅片越做越薄,硅片越薄,光子吸收率越少,铝背场方案翘曲较大,效率较低。
MWT组件的普通背板做成高反背板,在单玻设计情形下,采用全铝背场的MWT电池,无法发挥背面高反射的优势,而MWT采用铝栅线加密设计,通过叠加高反背板增加光的二次吸收从而提升组件功率。
发明内容
针对于上述现有技术的不足,本发明提供一种增加光二次吸收的MWT组件的制造、封装方法,MWT组件采用铝栅线加密设计增加光的二次吸收从而提升组件功率。
本发明专利为一种增加光二次吸收的MWT组件的制造方法,包括MWT电池,该MWT电池包括硅片,硅片的背面覆有蓝膜,且该硅片的背面等间距开有铝栅线槽以及圆环,铝栅线槽包括呈平行分布的栅线以及呈交错分布的辅助线,铝栅线槽与圆环连接;制造该MWT电池的方法包括以下步骤:
步骤1,激光打孔:利用激光的热效应在硅片上开孔;
步骤2,制绒:通过双氧水溶液、氢氧化钠或氢氧化钾溶液、氢氟酸与盐酸混合溶液依次对硅片表面进行清洗;
步骤3,扩散:在750~850摄氏度的高温扩散炉中通入三氯氧磷、氧气、氮气在硅片表面制PN结;
步骤4,激光SE:利用激光,使金属化区域重掺杂;
步骤5,碱抛:利用KOH使背面抛的更光滑;
步骤6,退火:将硅片背靠背置于石英舟里,在氧化炉中通入氧气、氮气,表面生产二氧化硅膜;
步骤7,背钝化:硅片背面镀氧化铝沉积,提高长波吸收;
步骤8,镀膜:正背膜镀氮化硅,降低反射与钝化;
步骤9,背面激光开槽:利用激光在硅片背面刻线,刻线区域不包括贯穿孔隔离槽和背电极;
步骤10,丝网印刷:对硅片依次进行背电极、贯穿孔电极、背场和正电极银栅线印刷,制成MWT电池;
步骤11,对步骤10制成的MWT电池进行测试。
作为优选,步骤11的测试采用双面测试探针排,在测试机下增加黑色背板。用产线的夹具测试电池片效率会偏高,MWT铝栅线背面光滑,太阳光入射测试会吸收较多,在测试机下面增加黑色背板,黑色背板会吸收光,但不影响测试效率。
作为优选,制成的MWT电池的背面的栅线包括交替排布的铝主栅以及铝副栅,铝主栅上等间隔分布有小圆环,该小圆环为正极点外框;所述铝副栅上等间隔分布有大圆环,该大圆环为负极点外框。铝主栅较铝副栅的面积更大,用于收集电流;辅助线呈放射状交替分布,用于改善FF。
作为优选,制成的MWT电池的背面的圆环的边缘位置采用加密辅助线,加强电池片边缘电流的收集。
本发明还公开了一种增加光二次吸收的MWT组件的封装方法,具体包括以下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京日托光伏新能源有限公司,未经南京日托光伏新能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111658372.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





