[发明专利]蒸镀装置、蒸镀装置中的基板弯曲调节方法在审
申请号: | 202111640505.0 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114351106A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 陈建超;李朝晖 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/54;C23C14/24 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 中的 弯曲 调节 方法 | ||
本申请实施例公开了一种蒸镀装置、蒸镀装置中的基板弯曲调节方法,蒸镀装置包括设置于容纳腔内的:磁板;弯曲测试部设置于夹持件的下方,弯曲测试部包括设置于一基板夹持件下方的光发射器,以及设置于另一基板夹持件下方的光接收器,光发射器和光接收器相对设置。通过设置弯曲测试部测试基板的弯曲和下垂是否超出预设弯曲值,当基板的弯曲和下垂超出预设弯曲值时,调整磁力参数,减小设置光罩后对基板的刮伤、划伤,从而可以改善和避免光罩刮伤、划伤基板上的膜层结构。
技术领域
及显示领域,具体涉及一种蒸镀装置、蒸镀装置中的基板弯曲调节方法。
背景技术
有机发光显示面板(OLED)已经广泛用于生活之中,在有机发光显示面的生产过程中需要用到蒸镀工艺,例如红色发光器件、绿色发光器件、蓝色发光器件中的各种发光材料需要通过蒸镀工艺形成,在蒸镀工艺中用到蒸镀装置,将基板设置于蒸镀装置中,蒸镀装置内上到下依次磁板、基板、光罩,磁板吸附光罩,将基板夹持在磁板和光罩之间。
然而,基板由于厚度较薄,会发生弯曲,使得基板中部下垂,光罩夹持基板和从基板上分离时都会刮伤、划伤基板上的膜层结构。
发明内容
本申请实施例提供了一种蒸镀装置、蒸镀装置中的基板弯曲调节方法,可以解决在现有技术的蒸镀工艺中由于基板弯曲和下垂,导致的光罩刮伤、划伤基板上的膜层结构的技术问题。
本申请实施例提供了一种蒸镀装置,包括外壳、位于所述外壳内的容纳腔,以及设置于所述容纳腔内的:
磁板;
基板设置部,设置于所述磁板下方,所述基板设置部包括多个基板夹持件,所述基板夹持件对应于所述磁板的侧端设置;
弯曲测试部,设置于所述基板设置部的下方,所述弯曲测试部包括对应设置于一所述基板夹持件下方的光发射器,以及对应设置于另一所述基板夹持件下方的光接收器,所述光发射器和所述光接收器在同一平面相对的设置。
可选的,在本申请的一些实施例中,当基板设置于所述基板设置部上时,所述基板夹持件固定所述基板的边缘,所述光发射器发出测试光,所述光接收器接收所述测试光,所述弯曲测试部根据所述测试光在所述光发射器和所述光接收器之间的传播时间,来判定所述基板的弯曲程度是否超出预设弯曲值。
可选的,在本申请的一些实施例中,所述测试光为激光。
可选的,在本申请的一些实施例中,当所述测试光的传递时间大于预设阈值时间时,所述基板的弯曲程度超出预设弯曲值,所述预设阈值时间满足如下公式:
T=L/C;
其中,T为预设阈值时间,L为所述光发射器和所述光接收器之间的距离,C为所述测试光在所述容纳腔的气氛中的传播速度。
可选的,在本申请的一些实施例中,所述容纳腔的气氛为真空状态或空气状态。
相应的,本申请实施例还提供了一种蒸镀装置中的基板弯曲调节方法,采用上述任一项所述的蒸镀装置,所述基板弯曲调节方法包括如下步骤:
步骤S100:将基板设置于所述容纳腔内,所述基板固定设置于所述夹持件上;
步骤S200:启动所述弯曲测试部,所述光发射器发出测试光,所述光接收器接收所述测试光;
步骤S300:所述弯曲测试部根据所述测试光在所述光发射器和所述光接收器之间的传播时间,来判定所述基板的弯曲程度是否超出预设弯曲值。
可选的,在本申请的一些实施例中,所述基板弯曲调节方法还包括如下步骤:
步骤S400:当所述基板的弯曲程度超出预设弯曲值时,调整所述磁板上的磁力参数。
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