[发明专利]一种表面检测方法、设备以及存储介质

权利要求书

1.一种表面检测方法，其特征在于，包括：

将背景图像调整至预设颜色，所述预设颜色包括至少一种颜色；

调整待测物体的待测表面至预设角度，所述预设角度包括至少一个角度，所述预设角度反映所述待测表面与水平面的夹角；

将所述背景图像确定为所述待测表面的成像背景，采集所述待测表面对应的检测图像，其中，所述检测图像包括所述背景图像的部分或全部在所述待测表面上反射形成的反射图像；

根据所述检测图像，检测所述待测表面的预设特征。

2.如权利要求1所述的表面检测方法，其特征在于，当所述背景图像的颜色为非黑色中的至少一种颜色时，所述预设角度包括至少两个角度，每一个所述预设角度对应至少一种颜色的所述背景图像；

所述采集所述待测表面对应的检测图像，包括：

根据所述背景图像的颜色，将所述待测表面调整至对应所述预设颜色的所述预设角度；或，根据所述预设角度，将所述背景图像调整至对应所述预设角度的所述预设颜色；

在非黑色的所述背景图像为所述待测表面的成像背景的情况下，采集所述待测表面对应的检测图像。

3.如权利要求1或2所述的表面检测方法，其特征在于，当所述背景图像的颜色为黑色时，所述预设角度包括至少一个角度；

所述采集所述待测表面对应的检测图像，包括：

将所述待测表面调整至所述预设角度；

在黑色的所述背景图像为所述待测表面的成像背景的情况下，采集所述待测表面对应的检测图像。

4.如权利要求3所述的表面检测方法，其特征在于，所述待测物体为晶圆，所述待测表面为晶圆的正面和/或背面，所述预设特征为晶圆的宏观缺陷，其中，所述宏观缺陷包括第一缺陷类别以及第二缺陷类别，所述第一缺陷类别包括色差、水印以及气泡中的至少一种，所述第二缺陷类别包括划痕以及工艺微粒中的至少一种；

在所述背景图像的颜色为非黑色中的至少一种颜色的情况下，所述方法用于检测所述第一缺陷类别；

在所述背景图像的颜色为黑色的情况下，所述方法用于检测所述第二缺陷类别。

5.如权利要求4所述的表面检测方法，其特征在于，所述预设角度为0°～90°，和/或，所述预设颜色包括黑色、白色、绿色、蓝色以及黄色中的至少一种。

6.如权利要求1所述的表面检测方法，其特征在于，多个相机环绕待测物体的周侧呈现阵列排布；其中，每个所述相机对应一个所述预设角度设置；

所述采集所述待测表面对应的检测图像包括：

控制所述待测表面按照预设顺序依次转动至每个所述相机对应的所述预设角度；

在所述待测表面转动至对应的所述预设角度的情况下，控制所述相机采集所述待测表面对应的检测图像，得到所述多个相机对应的多个检测图像；

所述根据所述检测图像，检测所述待测表面的预设特征，包括：

根据所述多个相机对应的多个检测图像，检测所述待测表面的预设特征。

7.如权利要求1所述的表面检测方法，其特征在于，多个相机环绕待测物体的周侧呈现阵列排布；

所述采集所述待测表面对应的检测图像包括：

控制所述待测表面按照预设顺序依次转动至每个所述相机对应的所述预设角度；

在所述待测表面转动至对应的所述预设角度的情况下，控制所述相机采集所述待测表面对应的子检测图像，得到所述多个相机对应的多个所述子检测图像；其中，每个所述子检测图像包括所述背景图像的部分或全部在所述待测表面的部分区域上反射形成的反射图像；

对多个所述子检测图像进行拼接处理，得到拼接后的检测图像；

所述根据所述检测图像，检测所述待测表面的预设特征，包括：

根据拼接后的检测图像，检测所述待测表面的预设特征。