[发明专利]用于选择性激光烧结3D打印的PA11材料及其制备方法

权利要求书

1.一种用于SLS的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，所述制备方法步骤如下：

S1、将PA11原料与乙醇按比例加入高温反应器并密封；将反应器加热，同时以磁力搅拌器不断搅拌以促进原料溶解；

S2、严格控制降温速率，低速冷却S1反应器，并在115-125℃保温2h，保温后继续以控制的降温速率冷却至50℃以下；取出混合液，离心得到湿粉末；

S3、将S2中湿粉末置于真空干燥箱干燥，取出粉末；将粉末使用气流筛分仪处理，去除过细与过粗颗粒；

S4、将S3中粉末与纳米氧化硅粉末混合，以玛瑙球为研磨介质，球磨混合40min。

2.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S1中PA11原料用量为PA11原料与乙醇混合物总质量的10％-20％。

3.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S1中高温反应器能耐受250℃、300bar的高温高压。

4.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S1中，反应器加热至180-200℃。

5.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S2中，反应器冷却速率为0.2-0.5K/min。

6.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S2中，混合液离心转速为2000-5000rpm。

7.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S3中，真空干燥温度为40-50℃，干燥时间12h。

8.如权利要求1所述的尼龙11超细粉末的制备方法，其特征在于，步骤S4中纳米氧化硅的平均粒径为20nm，含量为0.1-0.5wt％，球磨速率40rpm，时间30-45min。

9.如权利要求1所述方法制备的尼龙11超细粉末用于SLS打印，其特征在于，所述应用方法为：将尼龙11超细粉末在185-190℃成型仓、158℃保温仓中进行SLS打印。