[发明专利]一种通过操纵衬底宏观移动轨迹实现纳米结构书写的方法

权利要求书

1.一种通过操纵宏观衬底移动轨迹设计制备微纳米结构的方法，其特征在于：包括：采用微米尺度的物体将掩膜版隔空支撑于衬底上，在蒸镀或溅射过程中，通过控制衬底的宏观移动轨迹，使蒸镀或溅射的材料通过掩膜版在衬底表面形成与衬底宏观移动轨迹相同、尺寸缩小的微纳米结构。

或采用微米尺度的物体将掩膜版支撑于衬底上，在离子束刻蚀或光刻蚀过程中，通过控制衬底的宏观移动轨迹，使离子束或光束通过掩膜版在衬底表面刻蚀出与衬底宏观移动轨迹相同、尺寸缩小的微纳米结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的微米尺度的物体为微米球或通过光刻等加工工艺制备的纳米柱等。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的掩膜版的图形为圆形，带形和/或者其它任意的形状。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述采用微米尺度的物体将掩膜版隔空支撑于衬底上的方法具体为：将微米尺度的物体固定于衬底上，再将掩膜版通过膜转移法转移至固定有微米尺度的物体的衬底上。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的微纳米结构相对于宏观移动轨迹的缩小倍数等于掩膜版到衬底的距离与蒸发源、溅射源或离子源到掩膜版的距离的比值。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述控制衬底的宏观移动轨迹的方法为间歇性移动衬底和/或连续性移动衬底。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的衬底的表面为平滑和/或凹凸表面。