[发明专利]一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法在审
申请号: | 202111588279.6 | 申请日: | 2021-12-23 |
公开(公告)号: | CN114355276A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 马鹏辉;李建峰;潘晶晶;张小飞 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | G01S3/00 | 分类号: | G01S3/00 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 唐少群 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 扩展 阵列 连续 均匀 移动 方法 | ||
1.一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,所述移动方法包括:
步骤S1、针对物理阵列计算其差阵,得到其差阵中相邻虚拟阵元的最大间距
步骤S2、以所述物理阵列当前位置处,为阵列的原始位置
步骤S3、将所述物理阵列从原始位置分别移动到如下的位置处:其中,d为阵元间的单位间距,其值等于入射信号波长的一半;
步骤S4、对各个位置处的阵列进行相位补偿;
步骤S5、将步骤S4中经过相位补偿后的各个阵列输出进行合成,得到合成阵列;
步骤S6、对步骤S5中得到的合成阵列,采用虚拟化的方法,得到所述合成阵列的差阵
步骤S7、对步骤S6中得到的差阵运用DOA估计方法,得到最终的角度估计值。
2.根据权利要求1所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述物理阵列其阵元位置集合为
3.根据权利要求2所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述差阵,其元素集合
4.根据权利要求3所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S2中,当所述物理阵列,处于原始位置时,其阵列输出为:
公式(1)中,K表示信源数量,d为阵元的单位间距,其值等于入射信号波长的一半,λ为入射信号波长,v表示阵列移动速度,a(θk)为阵列方向矢量,并且sk(t)为信号幅度,A=[a(θ1),a(θ2),...,a(θK)]为阵列的方向矩阵,为信号矢量,w(t)为噪声矢量。
5.根据权利要求4所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S3中,物理阵列在每次进行移动时,其位移设为其中,表示为:
在公式(2)中,表示向下取整,表示向上取整,q表示位移次数。
6.根据权利要求5所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S3中,物理阵列在每次移动后,阵列的输出矢量为:
公式(3)中,其中,
7.根据权利要求6所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S4中,对各个位置处的阵列输出,通过乘以相位校正因子的方法进行相位补偿,表达式为:
公式(4)中,
8.根据权利要求7所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S5中,对各个阵列输出进行合成,具体表达式为:
公式(5)中,A为方向矩阵的转置,B1和为对阵列输出进行相位补偿后的方向矩阵,其中,对应于y(t)的合成阵列的阵元位置的集合为
9.根据权利要求8所述的一种扩展阵列连续差阵的非均匀移动方法,其特征在于,在所述步骤S6中,合成阵列其对应的差阵具体表达式为:
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