[发明专利]一种用于多波长边发射半导体激光器的外延结构在审

专利信息
申请号: 202111582516.8 申请日: 2021-12-22
公开(公告)号: CN114400505A 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 任占强;王琛琛;李青民;李波;徐斌;孟锡俊;仇伯仓;李会利;杜美本;杨欢 申请(专利权)人: 西安立芯光电科技有限公司
主分类号: H01S5/34 分类号: H01S5/34;H01S5/343
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 郑丽红
地址: 710077 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 波长 发射 半导体激光器 外延 结构
【权利要求书】:

1.一种用于多波长边发射半导体激光器的外延结构,其特征在于:包括由下至上依次设置的N型衬底、出射波长为λ1的量子阱单元、第一陷阱隧道结、出射波长为λ2的量子阱单元、第二陷阱隧道结、出射波长为λ3的量子阱单元和P型接触层;

出射波长为λ1的量子阱单元、出射波长为λ2的量子阱单元通过第一陷阱隧道结串联,第一陷阱隧道结用于调制出射波长为λ1的量子阱单元、出射波长为λ2的量子阱单元激射的光场;

出射波长为λ2的量子阱单元、出射波长为λ3的量子阱单元通过第二陷阱隧道结串联,第二陷阱隧道结用于调制出射波长为λ2的量子阱单元、出射波长为λ3的量子阱单元激射的光场;

所述第一陷阱隧道结和第二陷阱隧道结均包括由下至上依次设置的P型陷阱层、P型重掺杂层、N型重掺杂层和N型陷阱层;其中N型陷阱层和N型重掺杂层共同作用,将位于其上方的量子阱单元激射出的高阶模限制在N型陷阱层中,同时与P型重掺杂层作用,形成隧穿效应;P型重掺杂层与P型陷阱层共同作用,将位于其下方的量子阱单元激射出的高阶模限制在P型陷阱层中,同时与N型重掺杂层作用,形成隧穿效应,连接上下两个量子阱单元。

2.根据权利要求1所述的用于多波长边发射半导体激光器的外延结构,其特征在于:出射波长为λ1的量子阱单元的激射波长为755nm,出射波长为λ2的量子阱单元的激射波长为808nm;出射波长为λ3的量子阱单元的激射波长为1064nm。

3.根据权利要求1所述的用于多波长边发射半导体激光器的外延结构,其特征在于:出射波长为λ1的量子阱单元包括由下至上依次设置的N-Alx1GaAs层、U-Alx2GaAs层、Inx3Alx4GaAs层、U-Alx2GaAs层、P-Alx1GaAs层。

4.根据权利要求1所述的用于多波长边发射半导体激光器的外延结构,其特征在于:出射波长为λ2的量子阱单元包括由下至上依次设置的N-Aly1GaAs层、U-Aly2GaAs层、Iny3Aly4GaAs层、U-Aly2GaAs层、P-Aly1GaAs层。

5.根据权利要求1所述的用于多波长边发射半导体激光器的外延结构,其特征在于:出射波长为λ3的量子阱单元包括由下至上依次设置的N-Alz1GaAs层、U-Alz2GaAs层、Inz3Alz4GaAs层、U-Alz2GaAs层、P-Alz1GaAs层。

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