[发明专利]一种佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法在审
申请号: | 202111581287.8 | 申请日: | 2021-12-22 |
公开(公告)号: | CN114437027A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 周佳;李方林;孙坤杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市祥根生物医药有限公司 |
主分类号: | C07D401/04 | 分类号: | C07D401/04 |
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地址: | 518172 广东省深圳市龙岗区中心*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 克隆 氧化 杂质 制备 方法 | ||
1.一种式(Ⅱ)佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1) 将佐匹克隆或其盐溶于有机溶剂中,得到淡黄色溶液;
(2) 向步骤1中加入氧化剂;
(3) 搅拌反应,萃取,浓缩,干燥,得佐匹克隆N-氧化杂质。
2.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺,N,N-二甲基乙酰胺,N-甲基吡咯烷酮或者二甲基亚砜。
3.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述的氧化剂为间氯过氧苯甲酸,过氧化氢,过氧叔丁醇,或者过氧乙酸。
4.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法,其特征在于,步骤(2)中佐匹克隆与氧化剂的摩尔比为1:0.8-1.1。
5.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法,其特征在于,步骤(3)中反应温度为0-35℃。
6.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法,其特征在于,步骤(3)中反应时间为1-3h。
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