[发明专利]一种佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法在审
| 申请号： | 202111581287.8 | 申请日： | 2021-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN114437027A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 周佳;李方林;孙坤杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市祥根生物医药有限公司 |
| 主分类号： | C07D401/04 | 分类号： | C07D401/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙岗区中心*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 克隆 氧化 杂质 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种式（Ⅱ）佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1) 将佐匹克隆或其盐溶于有机溶剂中，得到淡黄色溶液；
(2) 向步骤1中加入氧化剂；
(3) 搅拌反应，萃取，浓缩，干燥，得佐匹克隆N-氧化杂质。
2.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺，N,N-二甲基乙酰胺，N-甲基吡咯烷酮或者二甲基亚砜。
3.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述的氧化剂为间氯过氧苯甲酸，过氧化氢，过氧叔丁醇，或者过氧乙酸。
4.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法，其特征在于，步骤（2）中佐匹克隆与氧化剂的摩尔比为1:0.8-1.1。
5.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法，其特征在于，步骤（3）中反应温度为0-35℃。
6.根据权利要求1所述的佐匹克隆N-氧化杂质的制备方法，其特征在于，步骤（3）中反应时间为1-3h。
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