[发明专利]一种制备二氧化铈悬浮液的方法、二氧化铈悬浮液及抛光液有效
| 申请号： | 202111576349.6 | 申请日： | 2021-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN114045153B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 谢李乐;王同庆;柴智敏;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 苟冬梅 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制备 氧化 悬浮液 方法 抛光 | ||
1.一种制备CeO2悬浮液的方法，其特征在于，将CeO2颗粒与水加入球磨机中进行湿磨粉碎，粉碎后得到的液体即为CeO2悬浮液；
其中，粉碎时球磨机中的磨球直径为0.5-2 mm，球磨机中的磨球与CeO2颗粒的质量比为2-8，粉碎时水与CeO2颗粒的质量比为2-32，粉粹的时间为6-12 h；
所述CeO2悬浮液中CeO2颗粒的粒径为90-150nm，所述CeO2悬浮液中CeO2颗粒的浓度为0.0075 wt.%-0.15 wt.%。
2.根据权利要求1所述方法，其特征在于，其中，粉碎时球磨机中的磨球直径为0.5-1.5mm。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，粉碎时球磨机中的磨球与CeO2颗粒的质量比为5-7。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，粉碎时水与CeO2颗粒的质量比为8-32。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中，粉碎时间为10-12 h。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述CeO2悬浮液静置7天无明显沉降。
7.一种CeO2悬浮液在化学机械抛光液中的应用，其特征在于，所述抛光液为权利要求1-6任意一项所述方法制得的CeO2悬浮液。
8.根据权利要求7所述的应用，其特征在于，所述CeO2悬浮液中CeO2颗粒的浓度为0.03wt.%-0.15 wt.%。
9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述抛光液对二氧化硅的去除速率为1080-3600 Å/min，所述抛光液对氮化硅的去除速率为90-210 Å/min；
其中，所述抛光液对二氧化硅和氮化硅的去除速率选择比为12-16。
10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述抛光液对二氧化硅和氮化硅的去除速率选择比为13-16。
11.根据权利要求10所述的应用，其特征在于，用所述抛光液对二氧化硅和氮化硅空白晶圆片进行抛光后，二氧化硅表面的粗糙度≤0.3nm，氮化硅的粗糙度≤0.2nm。
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