[发明专利]一种钨铜合金材料表面沉积AlCrCN涂层的方法在审

专利信息
申请号: 202111522877.3 申请日: 2021-12-14
公开(公告)号: CN114182214A 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 施正彪;杜朝晖;李煜;杨勇 申请(专利权)人: 安徽昊方机电股份有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/54
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 代理人: 杨晋弘
地址: 233000 安徽省蚌*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜合金 材料 表面 沉积 alcrcn 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种钨铜合金材料表面沉积AlCrCN膜层的方法,其特征在于:包括有以下工艺步骤,

a、除油清洗:

a1、将需要加工的产品置于通用除油清洗剂溶液中进行浸泡清洗处理;

a2、将经过通用除油清洗剂浸泡清洗处理后的产品置于酒精中进行超声波清洗处理,超声波清洗处理的时间为3-8分钟;

a3、将经过超声波清洗处理后的产品置于超纯水中进行慢拉脱水处理,超纯水为100℃热水;

a4、将经过超纯水慢拉脱水处理后的产品置于烘箱中进行烘烤处理,烘箱采用110-180℃循环风进行烘烤,烘烤处理的时间为30-50分钟;待产品于烘箱中烘烤处理完毕后,将产品移出烘箱并自然冷却至室温;

b、底层制备:

b1、将经过烘烤处理且冷却至室温的产品置于真空炉中,启动抽真空装置进行抽真空处理并使得真空炉内部的真空度达到0.1Pa,而后开启真空炉的加热装置,当真空炉内部的温度到达200℃后开始计时恒温35-55分钟,恒温时间到达之后关闭真空炉的加热装置并停止加热;

b2、继续启动抽真空装置进行抽真空处理,直至真空炉内部的真空度达到0.5-0.8×10-3Pa,而后启动氩气流量控制器并往真空炉内部通入60-100SCCM的氩气,以使得真空炉内部的真空度上升至0.15Pa;

b3、依次打开偏压电源、Cr弧靶电源,偏压电源的电压设定为220-300V,Cr弧靶电源的电流设定为50-65A,在产品离子轰击5-8分钟后关闭弧靶电源,此时产品表面沉积Cr金属底层;

c、过渡层制备:

c1、启动氩气流量控制器并往真空炉内通入200-250SCCM的氩气,以使得真空炉内部的真空度上升至0.4-0.8Pa;

c2、将偏压电源的电压设定为100-150V,并开启Cr柱靶中频电源,Cr柱靶中频电源的电流设定为15-25A,在产品离子轰击10-15分钟后,产品Cr金属底层上沉积Cr过渡层;

d、加硬耐磨膜层制备:

d1、开启氩气流量控制器、乙炔气体流量控制器以及氮气流量控制器,真空炉内部通入200-300SCCM氩气、80-150SCCM乙炔气体、80-150SCCM氮气体以使真空炉内部的真空度上升至0.45-0.5Pa;

d2、将Cr柱靶电源的电流设定为20-30A,Al柱靶电源的电流设定为20-30A,同时将偏压电源的电压设定为80-100V;完成上述动作之后产品在转向Cr靶,Al靶时沉积AlCrCN加硬耐磨层,沉积时间为60-80分钟;

e、颜色层制备:

e1、启动氩气流量控制器、乙炔气流量控制器、氮气流量控制器,并往真空炉内部通入200-300SCCM氩气、250-350SCCM的乙炔气体,250-350SCCM的氮气,以使真空炉内部的真空度上升至0.5-0.8Pa;

e2、将Cr柱靶电源的电流设定为20-30A,Al柱靶电源的电流设定为20-30A,同时将偏压电源的电压设定为80-100V,完成上述动作之后将在产品上沉积颜色层AlCrCN,沉积时间为30-60分钟;

f、冷却出炉;

f1、待颜色层沉积完毕后,依次关闭Cr柱靶中频电源,Al柱靶中频电源,偏压电源,并关闭氩气流量控制器、乙炔气流量控制器、氮气流量控制器,抽真空装置;

f2、待上述关闭动作完成后,打开真空炉的炉门并进行开门放气,而后将加工后的产品取出并置于通风干燥处进行自然冷却。

2.根据权利要求1所述的一种钨铜合金材料表面沉积AlCrCN涂层的方法,其特征在于:所述步骤a1中,所述通用除油清洗剂溶液中的通用除油清洗剂质量浓度为5%-10%。

3.根据权利要求1所述的一种钨铜合金材料表面沉积AlCrCN膜层的方法,其特征在于:所述步骤a4中产品移出烘箱后,送入10W级无尘车间自然冷却至室温。

4.根据权利要求1所述的一种钨铜合金材料表面沉积AlCrCN膜层的方法,其特征在于:所述步骤a2中超声波清洗的功率为2.5KW。

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