[发明专利]自校准相机设备在审
| 申请号: | 202111520429.X | 申请日: | 2020-04-16 |
| 公开(公告)号: | CN114205504A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
| 发明(设计)人: | S·A·里伯迪 | 申请(专利权)人: | 安波福技术有限公司 |
| 主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/232 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 徐倩;钱慰民 |
| 地址: | 巴巴多斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 校准 相机 设备 | ||
1.一种用于维持用于车辆的相机设备的校准的系统,所述系统包括具有至少一个处理器的控制器,所述处理器被配置用于:
通过将电能量施加到多个电活性聚合物衬垫来产生所述相机设备的透镜和传感器之间的相对移动,所述多个电活性聚合物衬垫在所述相机设备的聚合物层内彼此远离地定位;并且
调整产生所述相对移动的所述电能量,以将所述传感器和所述透镜之间的分离距离维持在校准状态下。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述至少一个处理器被进一步配置用于:
确定所述相机设备何时处于所述校准状态;
确定当所述相机设备处于所述校准状态时施加至所述多个电活性聚合物衬垫的所述电能量的至少一个特性;并且
维持所述电能量的所述至少一个特性以维持所述相机设备的所述校准状态。
3.如权利要求2所述的系统,其特征在于,确定所述相机设备何时处于所述校准状态包括:
当所述传感器和所述透镜处于第一相对取向时获取参考的第一相机图像,所述第一相对取向与施加到所述多个电活性聚合物衬垫的所述电能量的第一量相关联;以及
确定所述第一相机图像与所述参考之间的对应性是否指示所述相机设备被校准。
4.如权利要求3所述的系统,其特征在于:
所述第一相机图像与所述参考之间的所述对应性指示所述相机设备未被校准;并且
所述至少一个处理器被进一步配置用于:
将不同量的电能量施加到所述多个电活性聚合物衬垫中的至少一个衬垫,以导致所述传感器和所述透镜之间的相对移动,以实现所述传感器和所述透镜之间的第二相对取向,
当所述传感器与所述透镜处于所述第二相对取向时,获取参考的第二相机图像,以及
确定所述第二相机图像与所述参考之间的对应性是否指示所述相机设备被校准。
5.如权利要求1-4中任一项所述的系统,其特征在于,调整产生所述相对移动的所述电能量以将所述传感器和所述透镜之间的所述分离距离维持在所述校准状态下包括:选择性地调整所述传感器或透镜中的至少一个相对于所述传感器或所述透镜中的另一个的位置,以重新校准所述相机设备。
6.如权利要求1-5中任一项所述的系统,其特征在于
所述多个电活性聚合物衬垫被定位成抵靠基板,并且所述传感器设置在所述基板上;并且
所述基板包括至少一个传导迹线,以用于使用所述控制器向所述多个电活性聚合物衬垫提供电能量。
7.如权利要求6所述的系统,其特征在于,所述相机设备包括支撑所述透镜和所述基板的壳体,并且其中
由所述多个电活性聚合物衬垫占据的空间响应于使用所述控制器施加的电能量而改变;
当由所述多个电活性聚合物衬垫占据的空间改变时,所述多个电活性聚合物衬垫与反应表面反应;并且
所述基板相对于所述壳体的位置随着所述多个电活性聚合物衬垫与所述反应表面反应而改变。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的系统,其特征在于,所述相对移动包括以下中的至少一个:所述传感器与所述透镜之间的距离的改变,以及所述传感器与所述透镜之间的倾斜角的改变。
9.如权利要求1-8中任一项所述的系统,其特征在于:
将电能量施加到所述多个电活性聚合物衬垫包括:将电能量的量施加到所述多个电活性聚合物衬垫中每个相应的衬垫;并且
分别被施加至所述多个电活性聚合物衬垫中的相应衬垫的电能量的不同量导致所述传感器与所述透镜之间不同的相对移动。
10.如权利要求1-9中任一项所述的系统,其特征在于,将电能量施加到所述多个电活性聚合物衬垫进一步包括:向所述多个电活性聚合物衬垫中的第一电活性聚合物衬垫提供具有第一特性的电能量,以及向所述多个电活性聚合物衬垫中的第二电活性聚合物衬垫提供具有第二不同的特性的电能量。
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