[发明专利]改变蚀刻参数的方法在审
| 申请号: | 202111513976.5 | 申请日: | 2017-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN114137803A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
| 发明(设计)人: | R·J·F·范哈恩;V·E·卡拉多;L·P·范戴克;R·沃克曼;E·C·摩斯;J·S·威尔登伯格;M·乔詹姆森;B·拉贾塞克兰;E·詹森;A·J·乌尔班奇克 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/3065;H01L21/66 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 改变 蚀刻 参数 方法 | ||
1.一种确定在配置衬底蚀刻过程中使用的蚀刻参数的方法,所述方法包括:
提供表示蚀刻引入的效果的第一变量与所述蚀刻参数之间的关系;
从经受通过所述蚀刻参数的初始值配置的所述衬底蚀刻过程后的衬底获得第一变量;以及
由所述关系和所获得的第一变量确定所述蚀刻参数。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述蚀刻参数为选自包括下述的组中的一个:a)在所述衬底蚀刻过程期间靠近所述衬底的边缘的电极的位置;和/或b)在所述衬底蚀刻过程期间施加至靠近所述衬底的边缘的电极的偏置电压。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中提供关系包括:
在蚀刻之前,针对多个衬底测量与衬底上的结构相关的第一度量;
在已经通过所述衬底蚀刻过程使用所述蚀刻参数的不同值蚀刻所述多个衬底中的每一个衬底的衬底上的结构之后,测量与所述衬底上的结构相关的第二度量;和
对每一衬底的第一测量与第二测量之间的差进行函数拟合,其中所述函数包括作为变量的所述第一变量。
4.如权利要求3所述的方法,其中每一个第一测量和第二测量包括多个单个测量,从所述衬底的所述边缘到测量的位置的径向距离为所述函数中的变量。
5.如权利要求3所述的方法,其中所述函数具有所述第一变量乘以1除以e的从所述衬底的所述边缘到所述测量的位置的径向距离d次方的形式。
6.如权利要求3所述的方法,其中所述第一度量为表示下述中的一个或者更多个的度量:
在所述衬底上的两个或者更多个层之间的重叠误差、所述衬底的一个层的特征的边缘相对于所述衬底的另一层的特征的边缘的放置误差、在特征的所期望的尺寸与所述特征的被测量的尺寸之间的差、在所述衬底上的多个部位处测量的属性的不对称性、与所期望的形状的偏差。
7.一种确定在配置衬底蚀刻过程中使用的蚀刻参数的方法,所述方法包括:
获得衬底上的被蚀刻的结构的测量结果;和
基于所获得的测量结果中的不对称性来确定所述蚀刻参数。
8.如权利要求7所述的方法,其中所述测量结果通过散射仪获得。
9.一种存储在计算机可读记录介质上的计算机程序,所述计算机程序包括机器可读指令,所述机器可读指令用于引起一个或多个处理器:
获得蚀刻引入的效果的第一变量和在配置衬底蚀刻过程中使用的蚀刻参数之间的关系;
从经受通过所述蚀刻参数的初始值配置的所述衬底蚀刻过程后的衬底获得第一变量;以及
由所述关系和所获得的第一变量确定所述蚀刻参数。
10.一种存储在计算机可读记录介质上的计算机程序,所述计算机程序包括机器可读指令,所述机器可读指令用于引起一个或多个处理器:
获得衬底上的被蚀刻的结构的测量结果;和
基于所获得的测量结果中的不对称性来确定所述蚀刻参数。
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