[发明专利]蒸镀源及蒸镀设备

说明书

本发明提供了一种蒸镀源及蒸镀设备。所述蒸镀源具有一第一温度区一第二温度区。所述蒸镀源包括：环绕一容器设置的热反射罩，所述热反射罩位于所述第一温度区中；设于所述热反射罩外侧的加热装置。

技术领域

本发明涉及薄膜制造技术领域，特别是一种蒸镀源及蒸镀设备。

背景技术

目前，制备显示器件主流的主要方式是真空加热蒸发镀膜，即在真空腔体内使用蒸镀热容器内的材料，使其在一定温度下升华或者熔融汽化成蒸汽，透过金属掩膜板上的开孔沉积在基板上。

蒸镀材料在真空蒸镀的过程中，蒸镀容器内部若存在较大温度差，在高温部气化的材料会在低温部冷却并再次固化。如果在容器的出料口处材料固化，会导致成膜的均一性性变差，甚至会导致出料口堵孔。

而现有工艺中所使用的蒸镀设备，如果提高其顶部加热丝功率会使蒸镀速率不稳定，进而导致成膜不均匀。并且长期的高温会使加热丝表面形成氧化物，影响其使用寿命及加热的稳定性。同时，现有工艺中还使用人工填料的方式来改善容器顶部产生材料结晶问题，但人工填料的方式在量产过程中会严重影响设备嫁动率及产量。

发明内容

本发明的目的是提供一种蒸镀源及蒸镀设备，以解决现有技术中蒸镀设备的容器出料口处材料容易固化，进而导致的成膜均一性性变差、出料口堵孔等问题，以及蒸镀设备的加热丝使用寿命短、加热的稳定性低等问题。

为实现上述目的，本发明提供一种蒸镀源，所述蒸镀源具有一第一温度区一第二温度区。所述蒸镀源包括一容器、一热反射罩以及一加热装置。所述热反射罩环绕所述容器设置，并位于所述第一温度区中。所述加热装置设于所述热反射罩的外侧。

进一步地，所述热反射罩包括主体部和镂空部。所述主体部对应于所述第一温度区。所述镂空部与所述主体部相连，并对应于所述第二温度区。所述镂空部的热反射面积小于所述主体部的热反射面积。

进一步地，所述热反射罩上具有若干镂空结构，所述镂空结构均匀分布在所述镂空部，并贯穿所述热反射罩。

进一步地，所述加热装置包括隔热罩和加热丝。所述隔热罩具有一容腔，所述容器和所述热反射罩置于所述容腔内。所述加热丝设于所述容腔的侧壁上。

进一步地，所述加热丝在所述第二温度区中的分布密度小于其在所述第一温度区中的分布密度。

进一步地，所述容器具有一出料口，所述出料口设于所述容器的顶部。

进一步地，所述第二温度区中所述容器内的温度小于所述第一温度区中所述容器内的温度。

进一步地，所述热反射罩的材料中含有金属钨。

进一步地，所述加热丝的材料中含有金属钼。

本发明中还提供一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括如上所述的蒸镀源。

本发明的优点是：本发明中的一种蒸镀源及蒸镀设备，通过增加容器顶部加热丝的分布密度，在不需要增加加热功率的情况下防止蒸镀材料在容器的顶部结晶而堵塞出料口，改善蒸镀成膜均一性，并提高蒸镀设备的嫁动时间及产能。同时，通过分区热反射的热反射罩使容器顶部温度高于底部，保证蒸镀材料在升华过程中持续加热。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中蒸镀源的截面结构示意图；

图2为本发明实施例中加热装置的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例中热反射罩的立体结构示意图。