[发明专利]耐压聚砜基膜及其制备方法在审
申请号: | 202111509263.1 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN114130216A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 张倩茹;赵岳轩;王乐译;朱娜娜;王新艳;王志勇 | 申请(专利权)人: | 山东招金膜天股份有限公司 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00;B01D69/02;B01D61/02;B01D71/68;C02F1/44;C02F103/08 |
代理公司: | 青岛泽为知识产权代理事务所(普通合伙) 37237 | 代理人: | 姚继伟;邵桂礼 |
地址: | 265406 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 耐压 聚砜基膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐压聚砜基膜,其特征在于包括无纺布层、通过在无纺布上涂敷聚砜溶液制备而成的聚砜基层,其中,聚砜溶液按重量百分比包括如下组成:
聚砜15~25%,成孔剂4~18%,表面活性剂0.04~0.2%,其余为溶剂。
2.如权利要求1所述的耐压聚砜基膜,其特征在于,所述聚砜为双酚A型聚砜、聚醚砜或聚芳砜。
3.如权利要求2所述的耐压聚砜基膜,其特征在于,所述成孔剂为小分子成孔剂或高分子成孔剂的一种或几种的混合,或是小分子成孔剂和高分子成孔剂的混合物;所述表面活性剂是十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、吐温、司盘、烷基醚磷酸酯或酚醚磷酸酯;所述溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和N-甲基-2-吡咯烷酮中的一种或几种的混合。
4.一种耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)配制聚砜溶液,并在一定溶解条件下溶解均匀,其中,
聚砜溶液按重量百分比包括如下组成:聚砜15~25%,成孔剂4~18%,表面活性剂0.04~0.2%,其余为溶剂;
2)将溶解好的聚砜溶液涂敷在无纺布上,置于凝固浴中进行相变固化,形成耐压聚砜基膜。
5.如权利要求4所述的耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,在所述步骤1)中,所述一定溶解条件为:
溶解温度:40~90℃;
投加顺序:先投加组成中的液体物料,再投加组成中的固体添加剂,最后投加聚砜;
搅拌速度:根据溶解时所用搅拌桨的结构确定搅拌速度。
6.如权利要求5所述的耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,在所述投加顺序上,先投加液体物料,溶解15~30min,再投加固体添加剂,溶解30~60min,最后投加聚砜。
7.如权利要求5所述的耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,在搅拌速度上,如果使用的是斜叶型搅拌桨,则搅拌速度为120~200r/min;如果使用的是盘型搅拌桨,则搅拌速度为1000~3000r/min。
8.如权利要求4至7任一项所述的耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,在所述步骤2),聚砜溶液涂敷的厚度为15~50微米。
9.如权利要求8所述的耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,在所述步骤2)中,凝固浴温度设置为5~25℃。
10.如权利要求4所述的耐压聚砜基膜的制备方法,其特征在于,所述聚砜为双酚A型聚砜、聚醚砜或聚芳砜;所述成孔剂为小分子成孔剂或高分子成孔剂的一种或几种的混合,或是小分子成孔剂和高分子成孔剂的混合物;所述表面活性剂是十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、吐温、司盘、烷基醚磷酸酯或酚醚磷酸酯;所述溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和N-甲基-2-吡咯烷酮中的一种或几种的混合。
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