[发明专利]一种制备陶瓷粉末的装置

权利要求书

1.一种制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，包括：

反应腔；

位于反应腔顶部的等离子体发生腔，所述等离子体发生腔与反应腔相连通；

位于反应腔内底部的坩埚，所述坩埚用于承载反应物料；

高频电源，所述高频电源与等离子体发生腔电连接，所述高频电源用于在等离子体发生腔内生成等离子体；

与反应腔相连通的沉降室；

位于沉降室底部的收集罐，所述收集罐与沉降室相连通；

与沉降室相连通的真空泵，所述真空泵用于使反应腔保持真空状态。

2.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，还包括：位于坩埚底部的升降架，所述升降架可对所述坩埚的高度进行调节。

3.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述反应腔包括第一部分和第二部分，所述第一部分与所述等离子体发生腔相连通，所述第二部分用于放置所述坩埚和反应物料，所述第一部分和第二部分可拆卸连接。

4.如权利要求3所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述第一部分和第二部分通过紧固螺栓可拆卸连接。

5.如权利要求3所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，还包括：位于第二部分侧壁的固定块，所述固定块与反应腔第二部分侧壁固定连接；与固定块相配合的丝杆，所述丝杆的转动带动所述固定块沿丝杆的延伸方向定向运动，所述丝杆与地平面垂直；与丝杆电连接的步进电机，所述步进电机控制所述丝杆转动使所述第二部分上升或下降。

6.如权利要求5所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，还包括：位于第二部分侧壁的滑块，所述滑块与反应腔第二部分侧壁固定连接，所述滑块与所述固定块分别位于反应腔第二部分相对的侧壁上；与滑块相配合的导轨，所述滑块可在导轨内滑动，所述导轨与丝杆平行。

7.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述高频电源包括等离子射频电源。

8.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述等离子体的温度范围为大于3000摄氏度。

9.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，还包括：与等离子体发生腔相连通第一进气管和第二进气管，所述第一进气管用于向等离子体发生腔内通入反应气体，所述第二进气管用于向等离子体发生腔内通入保护气体。

10.如权利要求9所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述反应气体包括氮气和氩气；所述保护气体包括氩气。

11.如权利要求9所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述第一进气管上设置有第一流量计，所述第二进气管上设置有第二流量计。

12.如权利要求10所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述坩埚的材料包括铝，所述反应物料的材料包括铝锭。

13.如权利要求12所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述陶瓷材料为氮化铝。

14.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，还包括：位于等离子体发生腔外壁的第一循环冷却系统，所述第一循环冷却系统的冷却方式包括水冷。

15.如权利要求1所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，还包括：与真空泵相连通的气水分离器，用于将真空泵抽取的气体和水汽的混合进行气体和水汽的分离。

16.如权利要求15所述的制备陶瓷粉末的装置，其特征在于，所述沉降室与反应腔通过第一管路相连通，所述真空泵与沉降室通过第二管路相连通，所述气水分离器与真空泵通过第三管路相连通。