[发明专利]高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金及其制备方法

权利要求书

1.一种高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金，其特征在于，所述镁合金主要由Mg、Gd和Ni组成，按重量百分比计，各组成成分的含量为：

Gd：5％～25％，Ni：1％～10％，余量为Mg和不可避免的杂质。

2.根据权利要求1所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金，其特征在于，按重量百分比计，各组成成分的含量为：

Gd：10％～20％，Ni：3％～8％，余量为Mg和不可避免的杂质，杂质总含量≤0.05％。

3.根据权利要求1所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金，其特征在于，按重量百分比计，各组成成分的含量为：

Gd：14.52％～18％，Ni：4.55％～6.3％，余量为Mg和不可避免的杂质，杂质总含量≤0.05％。

4.一种高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S100、按照权利要求1-3任一项所述的镁合金的组分计算需要原料的重量，将原料Mg、原料Gd或原料Ni进行预处理后备用；

S200、将步骤S100中的原料Mg、原料Gd和原料Ni放入电阻炉中熔炼，持续性通入保护气体，在温度750～780℃下使原料充分熔化，待合金完全熔化后降温至700～720℃静置保温25～30min，然后冷却，得到铸态镁合金；

S300、将步骤S200中所述铸态镁合金进行均匀化处理；

S400、将步骤S300中均匀化处理后的镁合金进行热挤压处理，得到高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金。

5.根据权利要求4所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，步骤S100中，原料Mg为纯镁锭，原料Gd为Mg-Gd中间合金，原料Ni为Mg-Ni中间合金。

6.根据权利要求4所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，步骤S100中，所述预处理包括将原料Mg、原料Gd或原料Ni进行表面打磨，去除氧化膜。

7.根据权利要求4所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，步骤S200中，保护气体为CO₂和SF₆的混合气体；

所述CO₂和SF₆的体积比为99：1。

8.根据权利要求4所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，步骤S200中，所述冷却的方式包括盐水浴、水淬、炉冷或空冷中的一种或多种。

9.根据权利要求4所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，步骤S300中，所述均匀化处理的温度为400～500℃，所述均匀化处理的时间为8h～12h。

10.根据权利要求4至9任一项所述的高强度高阻尼Mg-Gd-Ni镁合金的制备方法，其特征在于，步骤S400中，所述热挤压的温度为380～460℃，挤压比为11：1～28：1。