[发明专利]一种具有网状结构的钨铋酸薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种具有网状结构的Bi₂WO₆薄膜，其特征在于，所述Bi₂WO₆薄膜包括多个纵向纳米线和多个横向纳米线,所述纵向纳米线和所述横向纳米线形状相同，并相互交错、相互层叠，从而形成所述网状结构。

2.一种根据权利要求1所述的具有网状结构的Bi₂WO₆薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

(1)对衬底进行抛光处理和等离子清洗；

(2)采用Bi₂WO₆陶瓷靶材，通过脉冲激光沉积系统在清洗好的所述衬底上生长所述Bi₂WO₆薄膜。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述衬底为SrTiO₃、LaAlO₃、LSAT或0.7wt％Nb:SrTiO₃。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在所述脉冲激光沉积系统中，激光器为KrF准分子激光器，激光波长248nm，通过设定所述激光器的参数，使得所述靶材表面的激光能量密度为1J/cm²。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括，在生长所述Bi₂WO₆薄膜前，先设定所述Bi₂WO₆薄膜的生长条件，即调整所述靶材的表面与所述脉冲激光沉积系统中加热器的表面之间的距离为50mm，并设定所述加热器的温度和所述Bi₂WO₆薄膜的生长环境氧压。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述加热器的温度设定为550-650℃。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述加热器的温度设定为600-625℃。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述氧压设定为10-20Pa。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述氧压设定为14-16Pa。

10.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括，待所述生长条件稳定后，将激光脉冲频率设定为2-10Hz，并设定脉冲激光数量，以改变所述Bi₂WO₆薄膜的厚度。