[发明专利]纳米硅颗粒的制备方法在审
| 申请号： | 202111388660.8 | 申请日： | 2021-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN114229846A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 曹萌;舒梨;张正;胡海玲;詹世英;李海军 | 申请（专利权）人： | 格力钛新能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/02 | 分类号： | C01B33/02;H01M4/1395;B82Y30/00;B82Y40/00;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人： | 石鸣宇 |
| 地址： | 519041 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 颗粒 制备 方法 | ||
1.一种纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将微米硅颗粒分散到溶剂中，得到微米硅浆料；
将不同直径的至少两种研磨球混合后加入研磨机中，再将所述微米硅浆料加入所述研磨机中进行研磨，以得到纳米硅颗粒。
2.如权利要求1所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，所述至少两种研磨球包括第一研磨球和第二研磨球，所述第一研磨球的直径为0.5cm-0.8cm，所述第二研磨球的直径为0.08cm-0.2cm。
3.如权利要求2所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，所述第一研磨球的添加质量和所述第二研磨球的添加质量比值为0.5-2。
4.如权利要求1所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，各所述研磨球的质量之和为m1，固体硅颗粒的质量为m0，所述研磨机内形成的研磨腔的体积为V，其中，m1/m0＝1.5-2，m1/V＝0.5kg/L-0.8kg/L。
5.如权利要求1所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，在所述进行研磨的步骤中，还包括以下步骤：
在所述研磨机中添加所述溶剂，所述溶剂用于稀释所述微米硅浆料。
6.如权利要求1或5所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，在所述进行研磨的步骤中，具体研磨时间为8h-20h。
7.如权利要求1所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，所述研磨机包括分散盘和多个分散棒，各所述分散棒等间距分布于所述分散盘的边缘，且各所述分散棒沿所述分散盘边缘的内切线方向设置。
8.如权利要求7所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，所述分散盘为圆形，所述分散棒均为圆柱形，所述分散盘的直径为15cm，所述分散棒的直径为1cm-2cm。
9.如权利要求7或8所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，所述分散棒的数量为6-12个。
10.如权利要求1所述的纳米硅颗粒的制备方法，其特征在于，所述微米级硅粉原料占所述微米硅浆料的比例为20％-40％。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格力钛新能源股份有限公司，未经格力钛新能源股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111388660.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
