[发明专利]一种刻蚀设备的真空系统及防反冲方法在审

专利信息
申请号: 202111326400.8 申请日: 2021-11-10
公开(公告)号: CN114156151A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 任升辉;张洪春;薛海宏;王鑫维;秦军;杨杰 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01J37/18 分类号: H01J37/18
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 甄丹凤
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 刻蚀 设备 真空 系统 反冲 方法
【权利要求书】:

1.一种刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述真空系统包括:

真空室;

泵,所述泵与所述真空室连通,用于对所述真空室抽真空;

防反冲装置,所述防反冲装置连接于所述真空室和所述泵之间,防止所述泵内的介质流向所述真空室;以及

真空阀,连接于所述真空室和所述泵之间,用于调节抽真空过程中介质流的大小以及控制抽真空过程的起止。

2.根据权利要求1所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述防反冲装置包括第一端口以及第二端口,介质从所述第一端口流入时,所述防反冲装置开启;介质从所述第二端口流入时,所述防反冲装置关闭。

3.根据权利要求2所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述第一端口与所述真空室连接,所述第二端口与所述泵连接。

4.根据权利要求1所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,防反冲装置包括止回阀。

5.根据权利要求4所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述止回阀为升降式止回阀、旋启式止回阀和蝶式止回阀中的一种。

6.根据权利要求5所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述止回阀为立式升降止回阀。

7.根据权利要求6所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述立式升降止回阀包括:

阀体,所述阀体内部中空,形成腔体;

阀瓣,所述阀瓣滑动设置于所述腔体内;以及

阀体两端的第一端口和第二端口,所述第一端口和所述第二端口与所述腔体连通。

8.根据权利要求7所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述立式升降止回阀还包括:

安装板,安装板固定于所述腔体内;

滑座,所述滑座固定于所述安装板上,且中心开设有通孔;以及

滑杆,所述滑杆一端连接所述阀瓣,另一端滑动设置于所述通孔内。

9.根据权利要求8所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述阀瓣位于所述腔体靠近所述第一端口的一端。

10.根据权利要求7所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述阀瓣与所述第一端口同轴心设置,且所述阀瓣的截面积大于所述第一端口的横截面的面积。

11.根据权利要求8所述的刻蚀设备的真空系统,其特征在于,所述滑杆还套装有弹簧,所述弹簧夹装于所述滑座和所述阀瓣之间。

12.一种刻蚀设备的真空系统的防反冲方法,其特征在于,所述方法包括:

启动泵,所述真空室内的介质流向所述泵;

所述泵停止工作时,防反冲装置阻止泵内的介质流向所述真空室。

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