[发明专利]一种集成式隔离封装的压力传感器在审

专利信息
申请号: 202111314694.2 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN114001846A 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 王刚;刘磊;徐改 申请(专利权)人: 麦克传感器股份有限公司
主分类号: G01L1/14 分类号: G01L1/14;G01L9/12
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李鹏威
地址: 721006 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 集成 隔离 封装 压力传感器
【说明书】:

发明属于压力传感器领域,公开了集成式隔离封装的压力传感器,包括烧结基座;烧结基座一端上设置压圈,压圈与烧结基座之间设置隔离膜片;烧结基座另一端上设置基板,基板上设置补偿电路,补偿电路与烧结基座的管脚连接;基板与烧结基座之间设置塑料垫圈;烧结基座内设置陶瓷厚膜电路基底,陶瓷厚膜电路基底上设置连接电路、MEMS硅电容压力芯片和ASIC信号处理芯片;MEMS硅电容压力芯片通过连接电路与ASIC信号处理芯片连接,ASIC信号处理芯片通过连接电路与烧结基座的管脚连接;烧结基座一端上开设硅油灌注孔,硅油灌注孔内设置密封件,烧结基座内填充硅油。可以实现在更小尺寸下获得更高的灵敏度和测量精度,对热效应较不敏感,可承受超过更大的过压。

技术领域

本发明属于压力传感器领域,涉及一种集成式隔离封装的压力传感器。

背景技术

压力传感器是工业实践中最为常用的一种传感器,一般普通压力传感器的输出为模拟信号,模拟信号是指信息参数在给定范围内表现为连续的信号,或在一段连续的时间间隔内,其代表信息的特征量可以在任意瞬间呈现为任意数值的信号。目前,普遍的压力测量技术是压阻技术,通过在薄片表面形成半导体变形压力,通过压力使薄片变形而产生压电阻抗效果,从而使阻抗的变化转换成电信号。

但是,基于压阻技术的压力传感器受温度变化的影响很大,随着时间的推移会出现明显的零点和量程漂移,并且很容易被意外的过压破坏,导致其改善空间有限,越来越难适应高灵敏度的压力测量需求。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点,提供一种集成式隔离封装的压力传感器。

为达到上述目的,本发明采用以下技术方案予以实现:

一种集成式隔离封装的压力传感器,包括烧结基座;

烧结基座一端上设置压圈,压圈与烧结基座之间设置隔离膜片;烧结基座另一端上设置基板,基板上设置补偿电路,补偿电路与烧结基座的管脚连接;基板与烧结基座之间设置塑料垫圈;烧结基座内设置陶瓷厚膜电路基底,陶瓷厚膜电路基底上设置连接电路、MEMS硅电容压力芯片和ASIC信号处理芯片;MEMS硅电容压力芯片通过连接电路与ASIC信号处理芯片连接,ASIC信号处理芯片通过连接电路与烧结基座的管脚连接;烧结基座一端上开设硅油灌注孔,硅油灌注孔内设置密封件,烧结基座内填充硅油;

其中,MEMS硅电容压力芯片用于将被测压力转换为电容信号,并发送至ASIC信号处理芯片;ASIC信号处理芯片用于电容信号的温度补偿和非线性修正,得到修正电容信号;补偿电路用于修正电容信号的滤波和输出。

本发明进一步的改机在于:

所述补偿电路为输出为I2C接口协议的补偿电路。

还包括接插件,接插件与补偿电路的输出端连接。

所述烧结基座的外侧开设密封环槽,密封环槽内设置密封圈。

所述密封环槽的宽度为2.4mm或3.5mm。

所述陶瓷厚膜电路基底为双面厚膜电路基底,连接电路设置在双面厚膜电路基底的两侧,双面厚膜电路基底远离MEMS硅电容压力芯片和ASIC信号处理芯片的一侧上设置覆盖该侧连接电路的绝缘层。

所述MEMS硅电容压力芯片和ASIC信号处理芯片粘接在陶瓷厚膜电路基底上。

所述陶瓷厚膜电路基底为96%Al2O3陶瓷材质。

所述陶瓷厚膜电路基底的热膨胀系数与MEMS硅电容压力芯片和ASIC信号处理芯片的热膨胀系数之间的误差不大于3.0ppm/℃。

所述烧结基座为不锈钢一体化烧结基座,所述压圈与烧结基座焊接连接。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

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