[发明专利]负熵水体的制备方法及其制备装置、负熵水体有效
申请号: | 202111300896.1 | 申请日: | 2021-11-04 |
公开(公告)号: | CN114162942B | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
发明(设计)人: | 孙堃峰;任宏基;张纪元;赵青林 | 申请(专利权)人: | 负熵港(深圳)水业有限公司 |
主分类号: | C02F1/48 | 分类号: | C02F1/48 |
代理公司: | 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 | 代理人: | 袁文英 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田区福田街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水体 制备 方法 及其 装置 | ||
1.一种负熵水体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
对水体进行预处理以使得所述水体内的水分子的氢氧键键角打开至114°;
将预处理后的所述水体置于同时具有挠场和磁场的复合场空间内,使得预处理后的所述水体内的水分子自发地排列成有序的网状结构,从而得到负熵水体;
所述对水体进行预处理以使得所述水体内的水分子的氢氧键打开至114°的步骤包括:
对水体进行灭菌;
对经过灭菌的所述水体进行活化处理,使得所述水体内的水分子处于激发态;
对活化处理后的所述水体进行共振处理,使得所述水体内的水分子的振动频率至2Hz~8Hz范围内,同时使的所述水体内的水分子的氢氧键打开至114°。
2.如权利要求1所述的负熵水体的制备方法,其特征在于,所述磁场由磁场发生装置产生,所述磁场发生装置的N极和S极位于同一水平面上,所述水体位于所述水平面的上方或下方。
3.如权利要求2所述的负熵水体的制备方法,其特征在于,所述磁场的强度为3300gs~4800gs。
4.如权利要求2或3所述的负熵水体的制备方法,其特征在于,所述挠场由至少一个挠场发生单体产生,多个所述挠场发生单体环绕形成环状结构,所述水体位于所述环状结构内;
所述挠场发生单体为直径50mm~10mm的球状结构。
5.如权利要求4所述的负熵水体的制备方法,其特征在于,所述磁场发生装置位于所述环状结构内。
6.一种负熵水体的制备装置,用于实施如权利要求1-5中任一项所述的负熵水体的制备方法,其特征在于,包括依次连通以供水体流通的净化装置、活化装置、质子转能装置以及粒子自旋触发装置;
所述净化装置用于对所述水体进行灭菌;
所述活化装置用于对经过灭菌的所述水体进行活化处理,以使得所述水体内的水分子处于激发态;
所述质子转能装置对活化处理后的所述水体进行共振处理,使得所述水体内的水分子的振动频率至2Hz~8Hz范围内,同时使的所述水体内的水分子的氢氧键打开至114°;
所述粒子自旋触发仓用于向所述水体提供磁场和挠场,使得所述水体内的水分子自发地排列成有序的网状结构,从而得到负熵水体。
7.如权利要求6所述的负熵水体的制备装置,其特征在于,所述净化装置包括低温等离子发生器和送风装置,所述低温等离子发生器通电后电极击穿反应气体产生离子气体,所述送风装置将所述离子气体送入所述水体中;
所述活化装置包括激光诱导处理装置;
所述质子转能装置包括分子滤膜和共振处理器,所述激发态水体经分子滤膜过滤后进入所述共振处理器内部,所述共振处理器内设有低频共振仪,所述低频共振仪对过滤后的所述激发态水体进行共振处理;
所述粒子自旋触发装置内设有用于产生磁场的磁场发生装置和用于产生挠场的挠场发生装置,所述磁场和所述挠场互相叠加的空间内设有供所述质子转能装置处理后的水体经过的管路。
8.如权利要求7所述的负熵水体的制备装置,其特征在于:所述粒子自旋触发装置包括舱体和设置在所述舱体内的滞留区,所述磁场发生装置包括磁体,所述磁体设置在所述滞留区的下方,所述挠场发生装置包括设置在所述舱体内壁上的挠场发生单体;
所述舱体的内侧壁上设有加热装置用以对所述挠场发生单体加热,加热温度为55~65℃。
9.一种负熵水体,其特征在于,由权利要求1~5任意一项所述的负熵水体的制备方法制得。
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