[发明专利]蒸镀速率检测设备、蒸镀设备及蒸镀速率检测方法在审
| 申请号: | 202111299900.7 | 申请日: | 2021-11-04 |
| 公开(公告)号: | CN113981379A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
| 发明(设计)人: | 刘文豪;加新星;刘金彪;罗楠;肖昂;姬磊;李靖;晋亚杰;李元星;胡斌;周杰;蒲红均;兰代江;李端瑞;王天昊;黄瑮;党博谭;尹茂吉;刘飞;熊呈祥;祁泽宙;汪泽峰;刘雅楼 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 崔家源;范继晨 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 速率 检测 设备 方法 | ||
1.一种蒸镀速率检测设备,其特征在于,至少包括:
旋转挡板、带孔盖和晶振盘;其中,
所述晶振盘上设置有多个晶振片;
所述带孔盖设置在所述晶振盘外侧,所述带孔盖的投影面积覆盖所述晶振盘,所述带孔盖上设置有两个第一通孔,所述第一通孔用于完全露出所述晶振盘上的整个晶振片;
所述旋转挡板设置在所述带孔盖外侧,所述旋转挡板上设置有预定形状的第二通孔,所述第二通孔用于在所述旋转挡板按照预定速度旋转至所述第一通孔所在位置时完全露出所述第一通孔内的全部第一晶振片和部分第二晶振片,以通过露出的部分所述第二晶振片在所述第二晶振片整体上蒸镀第一预定厚度的蒸镀材料。
2.如权利要求1所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,所述第一通孔完全露出的两个晶振片为相邻的两个晶振片。
3.如权利要求1所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,所述第二通孔的数量为一个或两个。
4.如权利要求3所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,在所述第二通孔的数量为一个时,所述第二通孔的形状包括第一部分和第二部分,所述第一部分用于露出整个第一晶振片,所述第一部分为圆形、方形、梯形或三角形,第二部分用于露出部分第二晶振片,所述第二部分为圆形、方形或三角形。
5.如权利要求3所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,在所述第二通孔的数量为两个时,第一个第二通孔的形状与第二个第二通孔的形状相同,所述第二个第二通孔的面积小于所述第一个第二通孔的面积。
6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,晶振盘包括:
正盘、背盘和簧片;其中,
所述正盘用于承载晶振片,所述正盘嵌入在所述背盘中,以与所述背盘处于一个平面内;
所述簧片,用于在第一晶振片上蒸镀材料的厚度达到第二预定厚度时,调整所述晶振盘上各个晶振片的位置,以将具有所述第一预定厚度蒸镀材料的所述第二晶振片切换至所述第一晶振片对应的第一通孔位置,并将第三晶振片切换至所述第二晶振片对应的第一通孔位置,所述第三晶振片与所述第二晶振片相邻。
7.如权利要求6所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,所述晶振盘的正盘为聚四氟乙烯材料。
8.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,还包括:
支撑所述旋转挡板旋转的第一转轴和支撑所述晶振盘旋转的第二转轴;其中,所述第一转轴的设置在第一晶振片和第二晶振片圆心连线的延长线上。
9.一种蒸镀设备,其特征在于,包括:权利要求1至8中任一项所述的蒸镀速率检测设备。
10.一种蒸镀速率检测方法,应用权利要求1至8中任一项所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,包括:
检测获取的蒸镀速率是否小于第一预定速率;
在小于所述第一预定速率的情况下,发送第一控制信号,以将具有第一预定厚度蒸镀材料的第二晶振片切换至第一晶振片对应的第一通孔位置,并将第三晶振片切换至所述第二晶振片对应的第一通孔位置,所述第三晶振片与所述第二晶振片相邻。
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