[发明专利]一种滤光片及其制备方法、摄像模组在审
申请号: | 202111240236.9 | 申请日: | 2021-10-25 |
公开(公告)号: | CN114019598A | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 李俊峰;高晶 | 申请(专利权)人: | 昆山丘钛微电子科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B5/22;G02B5/28;G02B1/115 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 李娇 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 滤光 及其 制备 方法 摄像 模组 | ||
1.一种滤光片,其特征在于,应用于摄像模组,所述滤光片包括:
滤光片本体,以及
黑膜,所述黑膜分布于所述滤光片本体的红外截止面,用于吸收入射到镜头边缘的大角度入射光线,所述黑膜包括层叠设置的减反射层和吸光层,所述吸光层为黑色固体材料。
2.如权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述黑色固体材料为呈现黑色的金属材料和/或金属氧化物,所述吸光层的透过率大于95%。
3.如权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述减反射层和所述吸光层分别设置有多层,所述减反射层和所述吸光层交替堆叠设置。
4.如权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述减反射层为高折射率材料层和低折射率材料层交替堆叠而成。
5.如权利要求4所述的滤光片,其特征在于,所述高折射率材料采用二氧化钛或五氧化三钛,所述低折射率材料采用二氧化硅。
6.一种滤光片制备方法,其特征在于,所述方法包括:
形成滤光片本体;
在所述滤光片本体的红外截止面形成黑膜,用于吸收入射到镜头边缘的大角度入射光线,其中,所述黑膜包括层叠设置的减反射层和黑色吸光层,所述吸光层为黑色固体材料。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在所述滤光片本体的红外截止面形成黑膜,包括:
在所述滤光片本体的红外截止面形成光刻胶层;
对所述光刻胶层进行曝光以及显影;
在显影后的光刻胶层表面交替形成堆叠的所述减反射层和所述吸光层,并进行去胶处理,以形成所述黑膜。
8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述减反射层为高折射率材料层和低折射率材料层交替堆叠而成,所述高折射率材料采用二氧化钛或五氧化三钛,所述低折射率材料采用二氧化硅。
9.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述黑色固体材料为呈现黑色的金属材料和/或金属氧化物,所述吸光层的透过率大于95%。
10.一种摄像模组,其特征在于,包括权利要求1-5中任一项所述的滤光片。
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