[发明专利]锥形结构的石墨基板在审
| 申请号: | 202111160694.1 | 申请日: | 2021-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN114086157A | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
| 发明(设计)人: | 葛永晖;陈张笑雄;郭炳磊;肖云飞;陆香花;李鹏 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C30B25/12 |
| 代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 吕耀萍 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 锥形 结构 石墨 | ||
1.一种石墨基板,其特征在于,所述石墨基板(100)为中部凸起的锥形结构(110),所述石墨基板(100)上具有多个用于放置衬底的凹槽(100a),所述凹槽(100a)均布在所述锥形结构(110)的锥形面上,且所述凹槽(100a)的底面与所述石墨基板(100)的底面呈角度设置。
2.根据权利要求1所述的石墨基板,其特征在于,从所述石墨基板(100)的中心至所述石墨基板(100)的边缘,所述凹槽(100a)的底面与所述石墨基板(100)的底面的夹角θ逐渐减小,0°<θ<90°。
3.根据权利要求2所述的石墨基板,其特征在于,所述锥形结构(110)的锥形面与所述石墨基板(100)的底面的夹角为α,0.5°<α<10°。
4.根据权利要求1所述的石墨基板,其特征在于,所述石墨基板(100)的顶部分布有多个导气沟槽(100b),每个所述导气沟槽(100b)均为环形槽,所述环形槽与所述石墨基板(100)同心设置。
5.根据权利要求4所述的石墨基板,其特征在于,所述石墨基板(100)的顶部均布有n个所述导气沟槽(100b),1≤n≤10。
6.根据权利要求1所述的石墨基板,其特征在于,所述石墨基板(100)的顶部分布有多个导气沟槽(100b),多个所述导气沟槽(100b)均为弧形槽,多个所述弧形槽均与所述石墨基板(100)同心设置,且多个所述环形槽位于同一圆周上。
7.根据权利要求6所述的石墨基板,其特征在于,多个所述导气沟槽(100b)沿所述石墨基板(100)的周向等距间隔布置。
8.根据权利要求6所述的石墨基板,其特征在于,所述石墨基板(100)的顶部均布有m个所述导气沟槽(100b),2≤m≤12。
9.根据权利要求4至8任一项所述的石墨基板,其特征在于,每个所述导气沟槽(100b)的深度均为2~10mm。
10.根据权利要求4至8任一项所述的石墨基板,其特征在于,每个所述导气沟槽(100b)的宽度均为2~10mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





