[发明专利]化学镀银液在审

专利信息
申请号: 202111158288.1 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN113897601A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 邱美琴;吴旭明;蔡良胜;曾剑珍;田雪峰 申请(专利权)人: 深圳市虹喜科技发展有限公司
主分类号: C23C18/42 分类号: C23C18/42
代理公司: 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 代理人: 苗广冬
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区龙岗街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 化学 镀银
【说明书】:

发明公开一种化学镀银液,用于制备印刷电路板,所述化学镀银液的pH为6~8,所述化学镀银液包括以下浓度的组分:0.2~5.0g/L的银离子、0.01~1.0mol/L的络合剂、不小于1g/L的表面张力助剂以及小于0.5g/L的稳定剂。本发明提供pH为6~8的中性化学镀银液,在中性环境下,化学银反应变得更加简单,只有银置换出铜,而不存在硝酸溶解银的反应,能够得到孔隙少的致密银层,该银层的贾凡尼效应水平能够控制在5%(2μm)以内,银下铜层孔洞少,能够做到在20μm*20μm pad满足华为标准。

技术领域

本发明涉及印刷电路板制备技术领域,具体涉及一种化学镀银液。

背景技术

印刷电路板(PCB)制造工艺中,通过在铜表面镀银以改善铜表面的导电性和可焊性。银镀层由化学镀银液在铜表面沉积形成。目前PCB表面涂覆使用的化学镀银液大多采用含硝酸的酸性镀银液,在使用这种镀银液制备银层时,存在以下缺陷:1、贾凡尼效应水平大多在10~20%(约5~8μm)范围,其制成的银层只能勉强满足终端小于20%的要求,存在较大的隐患;2、现有镀银液在沉积银层时,铜层局部位置置换反应速率过快,使得此处银离子消耗过快来不及补充,使得铜咬蚀速率大于银沉积速率,沉积银层不能完全覆盖铜面,从而形成大量的银下铜层孔洞,从而导致后续焊点中微空洞过于密集,使得焊点出现振动失效、温变疲劳失效等可靠性问题;3、银面发黄。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种化学镀银液,旨在解决传统酸性镀银液存在的贾凡尼效应水平高、银下铜层孔洞多、银面发黄的问题。

为实现上述目的,本发明提出一种化学镀银液,用于制备印刷电路板,所述化学镀银液的pH为6~8,所述化学镀银液包括以下浓度的组分:0.2~5.0g/L的银离子、0.01~1.0mol/L的络合剂、不小于1g/L的表面张力助剂以及小于0.5g/L的稳定剂。

可选地,所述银离子由银离子来源物提供,所述银离子来源物包括硝酸银、柠檬酸银、酒石酸银、氯酸银以及醋酸银中的一种或多种。

可选地,所述络合剂包括酸、酸的钠盐以及酸的钾盐中的至少一种,且所述酸包括柠檬酸、酒石酸、氨基磺酸、醋酸、乙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸或者葡萄糖酸。

可选地,所述表面张力助剂包括聚合环氧乙烷、聚合环氧丙烷、EO/PO嵌段共聚物、聚乙二醇以及聚丙二醇中的一种或多种。

可选地,所述稳定剂包括三氧化二铋、碘酸钾、柠酸酸铋、三氧化二锑、柠酸酸锑、巯基乙酸、巯基乙酸衍生物、巯基乙酸盐、巯基咪唑、巯基咪唑衍生物、水杨酸以及水杨酸盐中的一种或多种。

可选地,还包括铜离子,所述铜离子的浓度不大于3.0g/L。

可选地,所述铜离子由铜离子来源物提供,所述铜离子来源物包括铜单质、硝酸铜、柠檬酸铜、酒石酸铜、氯酸铜、醋酸铜中的一种或多种。

可选地,所述化学镀银液的pH为6.8。

可选地,所述化学镀银液包括以下组分:硝酸银、羟乙基乙二胺三乙酸三钠、葡萄糖酸钠、EO/PO嵌段共聚物、聚乙二醇、巯基乙酸以及硝酸铜。

可选地,所述化学镀银液的pH为6.8,且所述化学镀银液包括以下浓度的组分:硝酸银1g/L、羟乙基乙二胺三乙酸三钠12.5g/L、葡萄糖酸钠2.4g/L、EO/PO嵌段共聚物1.5g/L、聚乙二醇68g/L、巯基乙酸0.1g/L以及硝酸铜0.3g/L。

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