[发明专利]载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法

说明书

本发明涉及载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法。提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。一种载置台装置，具备：第1载置台，能够移动；第2载置台，能够在所述第1载置台之上移动；以及控制部，将所述第2载置台相对于所述第1载置台的倾斜量控制成目标倾斜量，在所述载置台装置中，所述控制部根据所述第1载置台的移动区间来设定所述目标倾斜量而控制所述倾斜量。

技术领域

本发明涉及载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法。

背景技术

在用于制造半导体设备等的光刻装置中，有时当在基板上形成图案时使该基板倾斜。例如，在专利文献1中，作为使曝光装置中的焦点深度扩大的手法，提出了使原版(掩模)的图案成像于光轴方向的不同的位置的FLEX(Focus Latitude Enhancement Exposure，扩大调焦范围曝光)法。当在扫描曝光装置中实施基于该FLEX法的曝光的情况下，在相对于投影光学系统的像面而使基板倾斜的状态下对该基板进行扫描驱动。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2020-071274号公报

发明内容

发明要解决的课题

在光刻装置中，例如，有时使用具备粗动载置台(第1载置台)和能够保持基板而在该粗动载置台之上移动的微动载置台(第2载置台)的基板载置台。在这样的基板载置台中，能够通过控制微动载置台相对于粗动载置台的倾斜量来控制基板的倾斜(姿势)。

然而，当使第2载置台相对于第1载置台倾斜时，与其倾斜量相应地，可能产生第1载置台与第2载置台的间隙变小的部位。因此，取决于该倾斜量的控制偏差，有可能第1载置台与第2载置台产生干扰(接触)。例如，在使第1载置台加速或减速的加减速区间，与使第1载置台匀速移动的匀速区间相比，倾斜量的控制偏差大，产生该干扰的可能性变高。

因此，本发明的目的在于提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。

解决课题的手段

为了达到上述目的，作为本发明的一个方面的载置台装置的特征在于，具备：第1载置台，能够移动；第2载置台，能够在所述第1载置台之上移动；以及控制部，将所述第2载置台相对于所述第1载置台的倾斜量控制成目标倾斜量，所述控制部根据所述第1载置台的移动区间来设定所述目标倾斜量而控制所述倾斜量。

本发明的进一步的目的或者其他方面将通过以下参照附图说明的优选的实施方式而变得清楚。

发明的效果

根据本发明，例如，能够提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。

附图说明

图1是示出曝光装置的结构的概略图。

图2是示出基板载置台的结构例的图。

图3是用于说明粗动载置台以及微动载置台的结构的图。

图4是用于说明微动载置台相对于粗动载置台的倾斜量的图。

图5是示出以往的控制例中的粗动载置台的移动速度、微动载置台的目标倾斜量以及间隙的大小的图。

图6是示出第1实施方式的控制例中的粗动载置台的移动速度、微动载置台的目标倾斜量以及间隙的大小的图。

图7是第1实施方式的载置台装置的控制框图。

符号说明

60：曝光装置；62：原版载置台；64：基板载置台；65：控制部；STG1：粗动载置台(第1载置台)；STG2：微动载置台(第2载置台)。

具体实施方式