[发明专利]一种返工片的清洗方法及清洗机

权利要求书

1.一种清洗机，用于清洗隧穿氧化钝化接触太阳电池制程工艺中的返工片，所述返工片具有依次叠置的硅衬底、隧穿层、掺杂多晶硅层，其特征在于，所述清洗机包括：

基座，具有机架、悬臂和机械手，其中，所述悬臂连接于机架，所述机械手滑动地连接于所述悬臂，所述悬臂沿预设方向延伸；

清洗槽，位于所述悬臂之下；

所述清洗槽包括沿所述预设方向依次排布的第一酸洗槽、碱洗槽、第二酸洗槽；

所述第一酸洗槽和所述第二酸洗槽被用于容纳腐蚀所述隧穿层的酸洗液，所述碱洗槽被用于容纳腐蚀所述掺杂多晶硅层的碱洗液。

2.根据权利要求1所述的清洗机，其特征在于，所述机械手的数量为多个，全部的机械手分别独立地滑动连接于所述悬臂。

3.根据权利要求2所述的清洗机，其特征在于，所述基座具有多个悬臂，全部的机械手分别连接于所述多个悬臂。

4.根据权利要求1所述的清洗机，其特征在于，所述清洗机还包括用于放置所述返工片的载具，所述载具与所述机械手配合，且能够被所述机械手转移而被放置于第一酸洗槽、碱洗槽和第二酸洗槽中的任意一者内。

5.根据权利要求1所述的清洗机，其特征在于，所述清洗机还包括多个鼓泡器，所述多个鼓泡器至少配置于所述第一酸洗槽、碱洗槽和第二酸洗槽中的至少一者。

6.根据权利要求1所述的清洗机，其特征在于，所述清洗机包括沿所述预设方向配置于所述第二酸洗槽的下游工序的水洗槽，所述水洗槽是淋洗水槽或漂洗水槽，所述淋洗水槽配置有淋洗器；

或者，所述清洗机包括沿所述预设方向配置于所述第二酸洗槽的下游工序的水洗槽，所述水洗槽包括淋洗水槽和漂洗水槽，所述淋洗水槽配置有淋洗器，且所述清洗槽按照以下方式进行排布：沿所述预设方向依次排布第一酸洗槽、碱洗槽、第二酸洗槽、淋洗水槽和漂洗水槽。

7.根据权利要求6所述的清洗机，其特征在于，所述清洗槽还包括第一水槽和第二水槽，所述第一水槽位于所述第一酸洗槽和所述碱洗槽之间，所述第二水槽位于所述第二酸洗槽和所述碱洗槽之间。

8.根据权利要求1所述的清洗机，其特征在于，所述第一酸洗槽、所述第二酸洗槽和所述碱洗槽分别独立地配置排液管道。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的清洗机，其特征在于，所述清洗机包括定时装置，所述定时装置被配置通过所述机械手使所述返工片在所述第一酸洗槽和所述第二酸洗槽中分别独立地停留第一时间、使所述返工片在所述碱洗槽中停留第二时间，所述第一时间小于所述第二时间。

10.一种返工片的清洗方法，通过权利要求9所述的清洗机实施，其特征在于，所述清洗方法包括：

在所述清洗槽中分别对应装入清洗试剂；

由所述机械手将所述返工片依次放入所述清洗槽中的各个槽进行清洗，并且通过所述定时装置控制所述返工片在所述第一酸洗槽和所述第二酸洗槽中的浸泡时间小于所述返工片在所述碱洗槽中的浸泡时间。