[发明专利]一种聚硫脲类化合物及其制备方法与应用有效
申请号: | 202111051834.1 | 申请日: | 2021-09-08 |
公开(公告)号: | CN113583238B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 唐本忠;胡蓉蓉;于永江;秦安军;赵祖金 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08G73/02 | 分类号: | C08G73/02;C08J5/18;C08L79/02 |
代理公司: | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 龙涛 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硫脲 化合物 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明属于高分子化学和材料学领域,具体涉及一种聚硫脲类化合物及其制备方法与应用。所述的聚硫脲类化合物的制备包括如下步骤:(1)在保护气下,取胺类化合物、单质硫和三苯基膦二氟乙酸内盐混合,加入有机溶剂,升温并保持温度在搅拌下进行聚合反应;(2)待步骤(1)反应完全后将反应体系冷却至室温,将反应母液溶解于有机溶剂中,然后将其加入到沉淀剂中进行沉淀,收集沉淀物并室温干燥至恒重,得到所属的聚硫脲类化合物。本发明的制备方法反应原料易得,聚合条件温和、工艺简单、聚合效率高。所述的聚硫脲类化合物可用于高折光指数薄膜或者光学器件。
技术领域
本发明属于高分子化学和材料学领域,具体涉及一种聚硫脲类化合物及其制备方法与应用。
背景技术
聚硫脲是一类典型的含硫聚合物,具有优异的自修复性能、高折光指数、高介电常数、强金属配位能力等特殊优势,受到科学家们的广泛关注。目前已报道的合成聚硫脲的方法主要是二胺单体与硫脲、硫光气、二异硫氰酸酯等反应制得。这些方法中用到的硫脲需要在微波条件反应,能耗高,而硫光气是剧毒气体,并且遇水不稳定,二异硫氰酸酯需要通过二胺合成,分离、纯化过程复杂。这些因素都不利于结构和功能新颖的聚硫脲的开发。(Science 2018,359,72-76.;J.Am.Chem.Soc.2018,140,6156-6163;Macromolecules2019,52,8596–8603.;Adv Mater.,2013,25,1734-1738.;J.Mater.Chem.A 2015,3,14845-1485.)
因此开发条件温和、普适性强的聚硫脲合成方法非常具有科学和工业化价值。
发明内容
本发明的目的一在于提供一种聚硫脲类化合物的制备方法,克服了上述现有技术的缺点和不足。
为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:
本发明提供了一种聚硫脲类化合物的制备方法,包括以下步骤:
(1)在保护气下,取胺类化合物、单质硫和三苯基膦二氟乙酸内盐混合,加入有机溶剂,得到混合溶液,升温后在该温度下搅拌进行聚合反应;
(2)待步骤(1)反应完全后将反应体系冷却,将反应母液溶解于有机溶剂中,然后将其加入到沉淀剂中进行沉淀,收集沉淀物并干燥至恒重,即得聚硫脲类化合物。
优选的,所述胺类化合物包括二元胺和多元胺。
优选的,所述胺类化合物为多元胺化合物时,多元胺化合物:单质硫:三苯基膦二氟乙酸内盐的摩尔比为1:2~10:1~4。
优选的,所述胺类化合物为二元胺化合物时,二元胺化合物:单质硫:三苯基膦二氟乙酸内盐的摩尔比为1:2~6:1~3。
优选的,步骤(1)所述的保护气为氮气或氩气;步骤(1)所述的升温温度为40~100℃。
优选的,步骤(1)所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、四氢呋喃中的一种,所述的单质硫为升华硫。
优选的,步骤(1)混合溶液中胺类化合物的浓度为0.25~2mol/L。
优选的,步骤(1)所述搅拌的转速为200~600rpm,所述聚合反应的时间为0.1~3h。
优选的,所述步骤(2)中的冷却温度为25~30℃;所述步骤(2)的沉淀溶剂为甲醇。
优选的,所述步骤(2)的沉淀物在室温下干燥至恒重。
优选的,所述胺类化合物选自以下的任意一种:
其中,k为1~20的整数。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111051834.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类