[发明专利]一种靶材清洗剂及其清洗方法

说明书

本发明提供了一种靶材清洗剂及其清洗方法，所述的靶材清洗剂按重量份包括以下组分：烷基磺酸钠9～20重量份，脂肪醇醚硫酸钠9～20重量份，巯基苯骈噻唑钠1～5重量份，蛋白酶2～5重量份，十二烷基硫酸钠2～7重量份。本发明操作流程简单，清洁效果好，并且清洗剂易于制备，成本低廉，适合推广使用。

技术领域

本发明属于溅射技术领域，涉及靶材的清洗，尤其涉及一种靶材清洗剂及其清洗方法。

背景技术

溅射工艺是以一定能量的粒子轰击固体表面，使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺，通常利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材，阴极靶材表面的原子或分子获得足够大的能量逸出，飞向被镀基体表面沉积成膜。在溅射过程中，若靶材的表面附着有油污、灰尘、颗粒状杂质等异物会产生电弧放电，导致镀膜质量下降，因此需要对靶材进行充分清洁，保持足够的清洁度。

CN101724818A公开了一种铜或铜合金溅射靶材的清洗方法，其具有至少两个清洗阶段，包括：第一清洗阶段，使用第一清洗剂溶液对铜或铜合金溅射靶材进行至少一次清洗；第二清洗阶段，使用第二清洗剂溶液对铜或铜合金溅射靶材进行至少一次清洗。所述第一清洗剂和所述第二清洗剂是不同的，所述第一、第二清洗剂分别独立地为水、有机溶剂、以及多种溶剂的混合物中的任何一种。此外，所述清洗方法还可包括在所述第一清洗阶段前的预热工序、在所述第二清洗阶段后的蒸汽清洗阶段。

CN113231893A公开了一种ITO靶材的抛光清洗方法，包括以下步骤：(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的装置上；(2)使60～100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面；(3)粗清洗；(4)用800～1200目的金刚海绵刷替换所述60～100目的金刚海绵刷；(5)精抛光，即得清洗后的ITO靶材。本发明所述清洗方法通过步骤(3)的粗清洗和步骤(5)的精抛光，选用不同目数的金刚海绵刷，并且控制打磨的压力和速度，达到靶材表面粗糙度的要求。

CN109930162A公开了一种回收溅射靶材的清洗方法，步骤一、使用磨床将旧的溅射铝靶材面板和背板进行分离；步骤二、将分离出的溅射铝靶材面板置于酸溶液的容器中，所述酸溶液的质量浓度为10％～75％；步骤三、溶解结束后，取出溅射铝靶材面板，再浸入氢氧化钠溶液，对靶材表面酸溶液进去中和处理；所述氢氧化钠溶液的质量浓度为10～20％；步骤四、酸碱中和完成后，取出溅射铝靶材面板浸入纯水中；步骤五、从纯水中取出，肉眼观察是否有残存附着物；步骤六、附着物没有的情况下在温室内进行干燥，最终可获取干净的铝靶材。

靶材的清洁效率及其表面的清洁度直接影响着溅射镀膜的效率和质量，因此如何简化靶材清洗工艺，提高清洁效果显得非常重要。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种靶材清洗剂及其清洗方法，操作流程简单，清洁效果好，并且清洗剂易于制备，成本低廉，适合推广使用。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种靶材清洗剂，所述的靶材清洗剂按重量份包括以下组分：

本发明提供的靶材清洗剂清洗效率高、清洗范围广，能够全面地去除附着于靶材表面的油污、颗粒和及其他杂质，由此有效地保证溅射镀膜效果，同时能够降低清洗剂的成本，保证清洗效率，且具有安全性好，无副作用的特点。

本发明提供的靶材清洗剂中烷基磺酸钠的添加量为9～20重量份，例如可以是9重量份、10重量份、11重量份、12重量份、13重量份、14重量份、15重量份、15重量份、16重量份、17重量份、18重量份、19重量份或20重量份，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。