[发明专利]显示设备和制造显示设备的方法

说明书

本公开涉及显示设备和制造显示设备的方法，所述显示设备包括：主显示区域；和组件区域，包括彼此间隔开的像素组和在所述像素组之间的透射区域。所述显示设备还包括：基底，包括顺序地堆叠在彼此上的第一基体层、补偿层、第一阻挡层和第二阻挡层；底部金属层，在所述第一阻挡层与所述第二阻挡层之间；缓冲层，在所述第二阻挡层上；主显示元件，在所述主显示区域的所述基底上；以及辅助显示元件，在所述组件区域的所述基底上。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年9月03日提交的第10-2020-0112543号韩国专利申请的优先权和权益，上述韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

一个或多个实施例涉及显示设备和制造显示设备的方法，并且更具体地，涉及具有改善的产品可靠性的显示设备和制造显示设备的方法。

背景技术

近来，显示设备的应用已经多样化。此外，因为显示设备已经变得更薄和更轻，所以显示设备的用途范围已经增加。

考虑到以各种合适的方式利用显示设备，可以使用各种合适的方法设计显示设备的形状，并且可以增加可以与显示设备相关联或相联系的功能。

发明内容

本公开的实施例的一个或多个方面涉及一种显示设备以及一种制造显示设备的方法，所述显示设备具有扩展的显示区域，使得即使在布置有作为电子元件的组件的区域中也可以显示图像。然而，一个或多个方面仅是示例，并且本公开的范围不限于此。

附加方面将在随后的描述中部分地阐述，并且附加方面将部分地根据所述描述显而易见，或者可以通过实践所提供的本公开的实施例而获悉附加方面。

根据一个或多个实施例，一种显示设备，包括：主显示区域；和组件区域，包括彼此间隔开的像素组和在所述像素组之间的透射区域。所述显示设备还包括：基底，包括顺序地堆叠在彼此上的第一基体层、补偿层、第一阻挡层和第二阻挡层；底部金属层，在所述第一阻挡层与所述第二阻挡层之间；缓冲层，在所述第二阻挡层上；主显示元件，在所述主显示区域的所述基底上；以及辅助显示元件，在所述组件区域的所述基底上。

所述缓冲层可以包括第一缓冲层和在所述第一缓冲层上的第二缓冲层，所述第一缓冲层的厚度可以为至并且所述第二缓冲层的厚度可以为至

所述第一缓冲层可以包括(例如，可以是)氮化硅，并且所述第二缓冲层可以包括(例如，可以是)氧化硅。

所述第一缓冲层的折射率可以为1.8至2(2.0)，并且所述第二缓冲层的折射率可以为1.3至1.6。

所述补偿层的厚度可以为至

所述补偿层可以包括(例如，可以是)氮氧化硅。

所述补偿层的折射率可以为1.65至1.75。

所述第一阻挡层的厚度可以为至

所述第一阻挡层可以包括(例如，可以是)氧化硅。

所述第一阻挡层的折射率可以为1.3至1.6。

所述第二阻挡层的厚度可以为至

所述第一阻挡层和所述第二阻挡层可以包括(例如，可以是)相同的材料。

所述显示设备还可以包括：第二基体层，在所述第一基体层下方；和第三阻挡层，在所述第一基体层与所述第二基体层之间。

所述底部金属层可以包括与所述透射区域相对应的第一孔。

所述底部金属层可以布置为对应于所述辅助显示元件。

所述底部金属层可以直接布置在所述第一阻挡层上。